一、方波脈沖電流陰極保護(hù)機(jī)理研究 Ⅱ電流參數(shù)的影響（論文文獻(xiàn)綜述）
王宇鵬[1]（2021）在《微弧氧化負(fù)載等效模型及電流型脈沖變換器的研究》文中進(jìn)行了進(jìn)一步梳理微弧氧化（Micro-arc Oxidation,MAO）是一種在電解液中采用脈沖電源實(shí)現(xiàn)輕金屬表面改性的處理技術(shù)。由于脈沖電參數(shù)對(duì)微弧氧化負(fù)載加工效果至關(guān)重要,因此深入研究微弧氧化的負(fù)載需求,優(yōu)化電源控制已成為進(jìn)一步提升該技術(shù)的主要研究方向。本文針對(duì)微弧氧化負(fù)載等效模型與參數(shù)辨識(shí)、特殊的脈沖波形發(fā)生及脈沖控制策略等問題展開研究。首先,為了從電氣負(fù)載角度探究微弧氧化工藝條件下氧化膜層的生長過程,本文建立微弧氧化負(fù)載等效模型,選取微弧氧化在不同反應(yīng)階段的相關(guān)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),利用帶遺忘因子的遞推最小二乘法（Forgetting Factor Recursive Least Squares,FFRLS）對(duì)模型參數(shù)進(jìn)行辨識(shí),基于辨識(shí)參數(shù)擬合得到的負(fù)載端電壓與實(shí)際測(cè)量的負(fù)載端電壓具有一致性,驗(yàn)證了負(fù)載等效模型的正確性及參數(shù)辨識(shí)方法的準(zhǔn)確性。進(jìn)而根據(jù)加入負(fù)脈沖后的負(fù)載波形變化規(guī)律,分析得到一階純阻負(fù)載等效模型,并對(duì)相關(guān)參數(shù)求解?；谀Ｐ蛥?shù)辨識(shí)結(jié)果,總結(jié)了參數(shù)變化規(guī)律,討論了氧化膜層生長過程和模型參數(shù)之間的內(nèi)在關(guān)系,為電源設(shè)計(jì)提供理論指導(dǎo)依據(jù)。其次,依據(jù)負(fù)載等效模型,分析了微弧氧化反應(yīng)與脈沖形式的關(guān)系,得到電流型非對(duì)稱多電平的脈沖需求。為實(shí)現(xiàn)該種形式的脈沖,深入研究了一種Buck+Full bridge脈沖輸出變換器,闡述變換器實(shí)現(xiàn)脈沖輸出的工作過程。為滿足脈沖電流快速響應(yīng)條件及電流低紋波需求,采用交錯(cuò)并聯(lián)型Buck電路,分析并推導(dǎo)了輸出電流的紋波表達(dá)式。針對(duì)微弧氧化反應(yīng)過程中存在的負(fù)載大范圍頻繁波動(dòng)和輸出電流突變問題,研究了一種應(yīng)用于該變換器的預(yù)測(cè)電流控制方法。其中,引入兩步預(yù)測(cè)以補(bǔ)償數(shù)字控制器存在的一拍延時(shí)。同時(shí),分析了電感參數(shù)失配條件下預(yù)測(cè)電流控制策略的魯棒性。最后,為了驗(yàn)證脈沖變換器拓?fù)浼翱刂撇呗缘姆治?搭建了脈沖變換器仿真模型,并設(shè)計(jì)了系統(tǒng)硬件電路和軟件程序,搭建了實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。仿真和實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,Buck+Fullbridge脈沖輸出變換器可以輸出幅值、占空比和極性均可獨(dú)立調(diào)節(jié)的電流型非對(duì)稱多電平脈沖,能夠滿足不同微弧氧化負(fù)載脈沖需求。兩步預(yù)測(cè)電流控制在多種突變工況下能夠使輸出電流脈沖快速達(dá)到期望值,提高了脈沖輸出變換器的動(dòng)態(tài)性能及抗干擾性。
劉兆庭[2]（2021）在《鋰、鎂電解過程雜質(zhì)電化學(xué)行為研究》文中提出金屬鎂、鋰是高強(qiáng)超輕金屬結(jié)構(gòu)材料的關(guān)鍵合金元素。金屬鋰是國家戰(zhàn)略性金屬,廣泛應(yīng)用于新能源、新材料、新醫(yī)藥等領(lǐng)域,被譽(yù)為“工業(yè)味精”與“新能源金屬”。金屬鋰及鋰材產(chǎn)品是高比能固態(tài)鋰電池的關(guān)鍵負(fù)極材料,隨著固態(tài)鋰電池在新能源汽車領(lǐng)域的不斷應(yīng)用,金屬鋰的發(fā)展前景和需求空間將不斷擴(kuò)張。熔鹽電解是生產(chǎn)金屬鋰、鎂的主要方法。實(shí)際生產(chǎn)中,原料、設(shè)備和工具帶來或產(chǎn)生雜質(zhì)進(jìn)入電解質(zhì)是不可避免的,雜質(zhì)會(huì)產(chǎn)生槽渣,加速陽極消耗,影響電解質(zhì)循環(huán),增加電流空耗,降低電流效率,增加能耗等,有些雜質(zhì)在陰極析出降低產(chǎn)品純度,導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量下降。研究金屬鋰、金屬鎂熔鹽電解過程中雜質(zhì)電化學(xué)行為,對(duì)揭示電化學(xué)微觀機(jī)理,優(yōu)化電解工藝,提高電流效率,保證產(chǎn)品質(zhì)量,節(jié)能降耗具有重要的理論和實(shí)際意義。本文針對(duì)電池級(jí)金屬鋰產(chǎn)品的技術(shù)需求,開展了輕金屬雜質(zhì)離子（Mg（Ⅱ）和Al（Ⅲ））、過渡族雜質(zhì)離子（Mn（Ⅱ）、Ni（Ⅱ）、Fe（Ⅱ））以及含氧化合物雜質(zhì)H2O、LiOH、Li2O及SO42-等在鋰電解過程中的電化學(xué)行為,以及鎂電解過程中Mn（Ⅱ）、Ni（Ⅱ）、Fe（Ⅱ）等離子的陰極電化學(xué)行為研究。結(jié)果表明,鋰電解過程中,雜質(zhì)離子Mg（Ⅱ）、Al（Ⅲ）、Mn（Ⅱ）、Ni（Ⅱ）及Fe（Ⅱ）在電極上反應(yīng)均屬于受擴(kuò)散控制的一步還原過程,且具有準(zhǔn)可逆特點(diǎn)。雜質(zhì)離子會(huì)優(yōu)先于目標(biāo)離子在電極析出,消耗部分電量,降低產(chǎn)品純度。計(jì)時(shí)電流法實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明這些雜質(zhì)在鎢電極的沉積均屬于瞬時(shí)成核過程。循環(huán)伏安法及方波伏安法研究結(jié)果表明Fe（Ⅲ）不能在熔鹽體系中穩(wěn)定存在,會(huì)進(jìn)一步分解為Fe（Ⅱ）。H2O、LiOH、Li2O及SO42-等含氧雜質(zhì)在鋰電解體系中的電化學(xué)過程研究表明,空氣中的水會(huì)通過擴(kuò)散進(jìn)入電解質(zhì)內(nèi)部參與電化學(xué)反應(yīng),計(jì)算得到H2O進(jìn)入電解質(zhì)后電化學(xué)反應(yīng)交換電子數(shù)為1,表明H2O與LiCl反應(yīng)生成LiOH。OH-發(fā)生兩次電化學(xué)還原,計(jì)算得到第一步電化學(xué)反應(yīng)電子轉(zhuǎn)移數(shù)為1,表明為OH-還原生成H過程,第二步反應(yīng)表示吸附在電極表面H還原并與電解質(zhì)中Li+生成LiH過程。鋰電解體系中Li2O易與H2O反應(yīng)生成LiOH雜質(zhì),改變電極過程。計(jì)時(shí)電流法研究結(jié)果表明加入Li2O使得金屬鋰成核方式由瞬時(shí)成核轉(zhuǎn)變?yōu)闈u進(jìn)成核。電解質(zhì)中H2O、LiOH及Li2O存在會(huì)消耗部分電量,影響金屬鋰析出,加快電極損耗,降低電極使用壽命。循環(huán)伏安法研究結(jié)果表明SO42-會(huì)向陰極遷移并參與陰極過程,給出了 SO42-在陰極氧化還原反應(yīng)路徑,認(rèn)為SO42-可在陰極表面發(fā)生四步還原反應(yīng),生成多種產(chǎn)物,消耗電量,造成陰極鈍化抑制鋰的正常析出。鎂電解過程中,雜質(zhì)離子Mn（Ⅱ）、Ni（Ⅱ）及Fe（Ⅱ）在電極上的還原屬于受擴(kuò)散控制的一步兩電子準(zhǔn)可逆過程。通過半積分法計(jì)算了不同溫度下的擴(kuò)散系數(shù),基于擴(kuò)散系數(shù)得到不同離子擴(kuò)散活化能分別為30.60 kJmol-1、45.81 kJ mol-1以及25.12 kJ mol-1。Nicholson法計(jì)算得到循環(huán)伏安法掃描速率為0.5 V/s時(shí),Mn（Ⅱ）/Mn（0）、Ni（Ⅱ）/Ni（0）及Fe（Ⅱ）/Fe（0）體系的標(biāo)準(zhǔn)速率常數(shù)k0依次為0.72×10-3 cm/s、1.68×10-3cm/s和2.32×10-3 cm/s,固有反應(yīng)速率與傳質(zhì)速率的比率Λ值依次為0.0314、0.0785、0.0886。計(jì)時(shí)電流法實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明雜質(zhì)在鎢電極上的沉積過程均屬于瞬時(shí)成核。
陳朝大[3]（2021）在《射流掩膜電解放電脈沖電源研制及加工技術(shù)研究》文中研究表明表面織構(gòu)因具有微小形狀的特點(diǎn),在航空航天、機(jī)械制造、仿生醫(yī)療器械等領(lǐng)域有重要的應(yīng)用。本文提出一種射流掩膜電解放電加工新方法,為表面織構(gòu)形貌加工提出新思路,為特種能場(chǎng)技術(shù)的發(fā)展提供新途徑。為實(shí)現(xiàn)新加工工藝,探索新方法加工機(jī)理,需要開展新型脈沖電源研究。針對(duì)電源參數(shù)設(shè)計(jì)要求,提出兩種復(fù)合技術(shù)方案。研究表明,整流Z源逆變—斬波輸出方案創(chuàng)新的電路特性能夠有效克服傳統(tǒng)逆變方案不能升壓和直通的問題,減少兩級(jí)變換產(chǎn)生的損耗,提高能源利用率和系統(tǒng)穩(wěn)定性,為脈沖電源的研制提供新的技術(shù)路線。在制定電源技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,通過SimPowerSystems對(duì)整流濾波模塊進(jìn)行研究。對(duì)三相半波整流和三相橋式整流分析,構(gòu)建三相橋式全控仿真模型,得出負(fù)載移相特性曲線,論證觸發(fā)角對(duì)平均電壓的影響。通過數(shù)值計(jì)算,分析每個(gè)周期內(nèi)輸入濾波電容所提供的能量,設(shè)計(jì)高容量存儲(chǔ)電路?；跔顟B(tài)空間平均法,對(duì)電源Z源逆變控制器進(jìn)行研究。對(duì)Z網(wǎng)絡(luò)的兩種狀態(tài)計(jì)算,分析直通占空比和升壓比的關(guān)系曲線,定量地給出Z網(wǎng)對(duì)直流電源的升壓規(guī)律。通過拉普拉斯變換,對(duì)Z網(wǎng)絡(luò)的狀態(tài)方程進(jìn)行數(shù)學(xué)演繹,求得系統(tǒng)的平均狀態(tài)方程和穩(wěn)態(tài)方程。對(duì)傳遞函數(shù)的增益進(jìn)行調(diào)整,設(shè)計(jì)串聯(lián)超前校正環(huán)節(jié),幅值裕度和相位裕度得到提升。在實(shí)現(xiàn)電源的調(diào)壓功能及Z源逆變升壓隔離后,對(duì)電源控制系統(tǒng)進(jìn)行研究。分析波形變換電路工作特點(diǎn),構(gòu)建電容濾波和容感濾波兩個(gè)模型并仿真。對(duì)開關(guān)器件及頻率分析,得出占空比和波形失真度關(guān)系曲線。對(duì)Buck變換器電感電流連續(xù)的工作狀態(tài)建模,提出調(diào)頻調(diào)寬混合調(diào)制方法,對(duì)頻率和占空比進(jìn)行控制。設(shè)計(jì)嵌入式高頻脈寬調(diào)制電路,可實(shí)現(xiàn)降壓（Buck）變換器直接控制開關(guān)管的狀態(tài)。在脈沖高壓電源裝備成功研發(fā)的基礎(chǔ)上,對(duì)脈沖射流電解掩膜加工放電特性和機(jī)理進(jìn)行研究。通過高速攝影儀對(duì)射流流柱放電過程分析,基于COMSOL軟件構(gòu)建流柱通道電場(chǎng)仿真模型。數(shù)值模擬結(jié)果顯示,電場(chǎng)的邊際效應(yīng)使暴露工件的電場(chǎng)強(qiáng)度從邊緣到中心逐漸增大,掩膜孔中心位置具有最大電場(chǎng)。對(duì)電解液與氣泡組成的電介質(zhì)電場(chǎng)進(jìn)行數(shù)學(xué)推演,揭示射流流柱放電通道形成機(jī)理。對(duì)射流掩膜電解放電工藝進(jìn)行實(shí)驗(yàn)研究。探究電壓峰值、電壓頻率、電壓占空比、加工間距對(duì)射流掩膜電解放電加工微坑形貌影響,通過分析凹坑深度、凹坑寬度、材料去除率、腐蝕系數(shù)四個(gè)指標(biāo)評(píng)價(jià)加工質(zhì)量與效果。利用正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì),對(duì)加工工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,獲得最佳工藝參數(shù)配置。
周捷[4]（2021）在《脈沖波形下污泥脫水特性及參數(shù)優(yōu)化研究》文中進(jìn)行了進(jìn)一步梳理隨著我國社會(huì)的快速發(fā)展和人口的逐漸增加,城市市政污泥的產(chǎn)量隨之迅速增加。而未經(jīng)處理的市政濕污泥含水率高,且含有大量有毒有害物質(zhì),直接排放會(huì)嚴(yán)重危害環(huán)境。住建部在《關(guān)于推進(jìn)污水資源化利用的指導(dǎo)意見》中提出,要積極推進(jìn)污泥無害化、資源化利用設(shè)施的建設(shè)。因此,污泥處置的重點(diǎn)主要集中在減量化、穩(wěn)定化和無害化。而污泥處理處置過程中的首要問題就是降低污泥含水率。工業(yè)處理通常采用機(jī)械法降低污泥含水率,包括重力沉降池、離心機(jī)、帶式、板框式壓濾機(jī)、螺旋壓榨機(jī)等。機(jī)械脫水后期污泥細(xì)小顆粒被壓縮聚集、導(dǎo)致濾布堵塞濾液流出受阻,裝置脫水效率下降。根據(jù)污泥處理處置工藝要求,可通過熱干化或深度脫水處理工藝如污泥調(diào)節(jié)等進(jìn)一步降低含水率。而將機(jī)械壓力與電場(chǎng)力結(jié)合強(qiáng)化污泥脫水效果的傳統(tǒng)電滲脫水也面臨諸多問題,需要尋求更加高效穩(wěn)定的電滲脫水解決方案。本文通過研究脈沖信號(hào)波形、頻率和占空比等污泥電滲脫水影響因素,研究脈沖參數(shù)對(duì)污泥電滲脫水結(jié)果的影響。通過改變脈沖信號(hào)參數(shù),來探究污泥脈沖電場(chǎng)下的參數(shù)優(yōu)化,通過記錄實(shí)驗(yàn)中泥餅溫度、電流瞬時(shí)值、陰極側(cè)濾液質(zhì)量隨時(shí)間變化曲線,研究脈沖電場(chǎng)下污泥內(nèi)部水分遷移規(guī)律以及脈沖參數(shù)變化對(duì)污泥最終含水率的影響。在機(jī)械壓濾、恒定電場(chǎng)和脈沖電場(chǎng)作用下對(duì)污泥進(jìn)行脫水,記錄陰陽極濾液pH值、泥餅pH值、污泥電導(dǎo)率、濾液COD值、泥餅厚度等。通過比較不同工況下污泥的脫水結(jié)果,分別對(duì)方波和正弦波下高效工況下的污泥濾液進(jìn)行TOC值測(cè)定、三維熒光光譜掃描,利用掃描電鏡對(duì)真空干燥后的污泥泥餅內(nèi)部進(jìn)行掃描對(duì)比。研究了脈沖電滲脫水前后污泥內(nèi)部有機(jī)質(zhì)、蛋白質(zhì)等大分子有機(jī)物的空間變化規(guī)律。此外,還引入了正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì),通過污泥在電滲脫水各個(gè)參數(shù)包括初始電導(dǎo)率、初始pH值、初始污泥厚度、機(jī)械壓力和電壓強(qiáng)度等工況下脫水研究,優(yōu)化不同參數(shù)下污泥的最佳脈沖電滲脫水參數(shù)。研究結(jié)果表明,脈沖信號(hào)的波形、占空比對(duì)污泥電滲脫水效率影響較大,頻率影響較小。相同頻率和占空比下,正弦波下污泥最終含水率低于方波。因?yàn)樵谙嗤芷谙?正弦波波形變化幅度大,電信號(hào)峰值高于方波,脫水過程中污泥內(nèi)部電化學(xué)反應(yīng)激烈,污泥絮體和胞外聚合物被破壞,蛋白質(zhì)和有機(jī)物等加速釋放。當(dāng)占空比增加后,電場(chǎng)強(qiáng)度增強(qiáng),污泥水分遷移速率加快,污泥脫水效率呈先加速后放緩的增長趨勢(shì),與陰極側(cè)濾液質(zhì)量變化規(guī)律一致。占空比80%時(shí)最終污泥含水率與恒定電場(chǎng)下接近。脈沖信號(hào)的頻率變化對(duì)污泥電滲脫水效果影響小于占空比變化的影響。能耗結(jié)果表明,高效脫水參數(shù)下電滲脫水能耗低于恒定電場(chǎng)下的能耗,脈沖電滲脫水可以有效降低能耗。通過對(duì)污泥脈沖電滲參數(shù)的實(shí)驗(yàn),發(fā)現(xiàn)正弦波60%占空比下脫水效率較高,且能耗較低,定義為高效脈沖參數(shù)。為對(duì)比方波和正弦波對(duì)污泥性質(zhì)的影響,選擇60%占空比下的方波與60%占空比下的正弦波進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。對(duì)方波和正弦60%占空比,50Hz、500Hz、1000Hz下電滲脫水后的污泥和濾液進(jìn)行總有機(jī)碳測(cè)定、三維熒光光譜掃描和掃描電鏡掃描,分析高效脈沖電場(chǎng)下污泥脫水前后性質(zhì)的變化。結(jié)果證明正弦波下污泥電滲脫水后濾液中有機(jī)物含量最高。對(duì)于方波,頻率增大后TOC值先減小后增大;對(duì)于正弦波,頻率增大后TOC值隨頻率增大而增大。脈沖信號(hào)對(duì)污泥內(nèi)部污泥絮體結(jié)構(gòu)破壞劇烈,加劇胞內(nèi)的蛋白質(zhì)和有機(jī)物及腐殖質(zhì)等的釋放,有機(jī)物等對(duì)應(yīng)熒光峰發(fā)生紅移。SEM掃描電子顯微鏡的結(jié)果也充分證明,相較于機(jī)械脫水,電滲脫水可以有效破壞污泥內(nèi)部絮體結(jié)構(gòu)顯著提高污泥脫水效率,絮體被破壞程度取決于施加的脈沖電滲參數(shù)。脈沖工藝參數(shù)調(diào)整對(duì)污泥電滲脫水結(jié)果影響各不相同,通過正交實(shí)驗(yàn)的方差分析后得出影響因素的影響大小順序?yàn)?電壓梯度>污泥厚度>電導(dǎo)率>機(jī)械壓力>pH值。少量添加無機(jī)鹽改變污泥初始電導(dǎo)率可以提高電流通率,促進(jìn)脫水;弱酸預(yù)處理污泥可以溶解污泥結(jié)構(gòu)改善污泥疏水性;污泥初始厚度提高增加能耗,需要選擇較小的厚度;機(jī)械壓力與脫水效率之間非線性增長關(guān)系,需要合理選擇;電壓梯度對(duì)污泥脈沖電滲脫水效率的影響最大。結(jié)合各個(gè)影響因素的效應(yīng)曲線和能耗可以更便于選擇污泥脈沖電滲脫水最佳工藝參數(shù)。
楊雨楓[5]（2020）在《串聯(lián)式浪涌保護(hù)器核電磁脈沖響應(yīng)特性研究》文中指出核電磁脈沖具有很強(qiáng)的破壞性,對(duì)于電力電氣設(shè)備來講。其經(jīng)過前門耦合,可以對(duì)天線系統(tǒng)造成干擾和嚴(yán)重破壞。使用浪涌保護(hù)器泄放過電壓是核電磁脈沖防護(hù)的主要技術(shù)手段之一,但是目前的浪涌保護(hù)器防護(hù)參數(shù)主要針對(duì)雷電電磁脈沖和靜電放電電磁脈沖,而核電磁脈沖前沿更快,幅值更高,所以在核電磁脈沖作用下可能會(huì)存在很大的差異,相應(yīng)選型可能不再適用,更有甚者會(huì)因?yàn)樽陨硎Щ蛘卟荒軉?dòng)保護(hù)的問題損傷燒毀被保護(hù)的線路或設(shè)備。為了提高信息傳輸系統(tǒng)在核電磁脈沖攻擊下的生存能力,保障天線端口的正常運(yùn)行,本文從理論角度解釋了串聯(lián)式浪涌保護(hù)器用于天線防護(hù)的可行性,同時(shí)建立了核電磁脈沖直接注入測(cè)試系統(tǒng),分別對(duì)氣體放電管、壓敏電阻和串聯(lián)式浪涌保護(hù)器進(jìn)行了響應(yīng)特性研究,比較快慢脈沖下響應(yīng)特性異同,總結(jié)串聯(lián)式浪涌保護(hù)器用于天線端口防護(hù)的選型依據(jù)。具體研究內(nèi)容如下:（1）通過分析氣體放電管、壓敏電阻和組合式浪涌保護(hù)器的工作原理和防護(hù)參數(shù),對(duì)比快慢脈沖下響應(yīng)參數(shù)的差異以及該差異性對(duì)防護(hù)器件響應(yīng)特性的影響。如氣體放電管響應(yīng)時(shí)間可從雷電電磁脈沖注入下的μs級(jí)提升到核電磁脈沖注入下的ns級(jí)。進(jìn)而從理論角度通過對(duì)串聯(lián)式浪涌保護(hù)器分析,認(rèn)為可以用壓敏電阻的限壓性切斷氣體放電管的續(xù)流問題,用二者串聯(lián)的形式解決了壓敏電阻由于結(jié)電容大而不常用于高頻信號(hào)防護(hù)線路的問題。從而解釋了串聯(lián)式浪涌保護(hù)器是否滿足天線防護(hù)的需求的問題。（2）針對(duì)測(cè)試需求,建立脈沖注入系統(tǒng)和電流測(cè)試系統(tǒng)以及傳輸線系統(tǒng),通過對(duì)測(cè)量原理的分析,選用合適的測(cè)試設(shè)備。根據(jù)IEC 61000-4-24、MILSTD-188-125-2和GJB 8848-2016分別設(shè)計(jì)方波脈沖注入實(shí)驗(yàn)方案和核電磁脈沖注入試驗(yàn)方案,開展氣體放電管和壓敏電阻以及串聯(lián)式浪涌保護(hù)器注入實(shí)驗(yàn)。（3）分析了氣體放電管在方波脈沖注入下的響應(yīng)時(shí)間的變化,發(fā)現(xiàn)氣體放電管響應(yīng)時(shí)間隨注入電壓幅值的增大而減小且差異性在減小。同時(shí)也分析了氣體放電管、壓敏電阻和串聯(lián)式浪涌保護(hù)器脈沖擊穿電壓、過充峰值電壓、響應(yīng)時(shí)間、箝位電壓和電壓變化率的各項(xiàng)防護(hù)參數(shù)的影響。最后進(jìn)行串聯(lián)式浪涌保護(hù)器與氣體放電管和壓敏電阻各項(xiàng)防護(hù)參數(shù)的對(duì)比,分析其對(duì)于單個(gè)器件的改進(jìn),給出天線前端的浪涌保護(hù)器選擇的選型依據(jù)。
周冬,李國明,遲均瀚,陳珊[6]（2020）在《脈沖陰極保護(hù)研究現(xiàn)狀及在鋁合金防護(hù)上的應(yīng)用展望》文中研究表明對(duì)脈沖陰極保護(hù)技術(shù)的起源,發(fā)展歷史及應(yīng)用現(xiàn)狀進(jìn)行了介紹。根據(jù)學(xué)者對(duì)Q235鋼、40角鋼等金屬在模擬海水環(huán)境下進(jìn)行的脈沖陰極保護(hù)研究,確定了影響脈沖陰極保護(hù)效果的主要參數(shù)為脈沖周期、占空比、脈沖幅值以及陽極距離等,分析得出了脈沖陰極保護(hù)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)以及該技術(shù)推廣所存在的限制和原因,并與傳統(tǒng)直流陰極保護(hù)技術(shù)的保護(hù)效果進(jìn)行比較,顯示出脈沖陰極保護(hù)技術(shù)用于金屬設(shè)備防護(hù)時(shí)的優(yōu)越性,可使保護(hù)電位更均勻,保護(hù)距離更長,在同等保護(hù)效果下的能耗更低。分析了當(dāng)前海水環(huán)境下船用鋁合金的使用特點(diǎn)以及保護(hù)現(xiàn)狀。結(jié)合脈沖陰極保護(hù)的特性和優(yōu)點(diǎn),根據(jù)傳統(tǒng)的陰極保護(hù)理論以及雙電層理論,分析并展望了脈沖陰極保護(hù)技術(shù)用于海洋環(huán)境下船用鋁合金防護(hù)的可行性和應(yīng)用前景。
張瀟祥[7]（2020）在《基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)程控電源研究》文中進(jìn)行了進(jìn)一步梳理隨著油田開發(fā)含水率上升,集輸管道內(nèi)壁腐蝕穿孔現(xiàn)象日益嚴(yán)重。外加電流陰極保護(hù)是一種有效的防腐方法,其中直流電源是外加電流陰極保護(hù)系統(tǒng)的主要設(shè)備。但直流電源供電方式在管道內(nèi)壁環(huán)境應(yīng)用時(shí)存在保護(hù)距離短、保護(hù)電位分布不均勻等問題,無法實(shí)現(xiàn)管段的全線保護(hù)。研究表明,采用脈沖電流陰極保護(hù)技術(shù)可以有效延長管內(nèi)保護(hù)距離,實(shí)現(xiàn)管內(nèi)保護(hù)電位的均勻分布。因此研究基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)程控電源,并通過設(shè)計(jì)管道內(nèi)壁脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)以檢驗(yàn)和實(shí)現(xiàn)程控電源功能,對(duì)油田集輸管道內(nèi)壁的腐蝕防護(hù)以及脈沖電流陰極保護(hù)技術(shù)的推廣應(yīng)用具有重要意義?；诖吮尘?本文從管內(nèi)脈沖電流陰極保護(hù)的實(shí)際需求出發(fā),首先對(duì)管道內(nèi)壁脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)總體結(jié)構(gòu)進(jìn)行了設(shè)計(jì),對(duì)關(guān)鍵部件柔性陽極、參比電極的結(jié)構(gòu)和安裝方式進(jìn)行了研究和設(shè)計(jì),并確定了陰極保護(hù)專用程控脈沖電源的技術(shù)方案。其次采用全橋逆變和直流斬波方式為主的多級(jí)變換思想設(shè)計(jì)了主電路結(jié)構(gòu),并對(duì)電路元件相關(guān)參數(shù)進(jìn)行了計(jì)算。采用多級(jí)自適應(yīng)閉環(huán)控制策略和相關(guān)算法實(shí)現(xiàn)了保護(hù)電位合理均勻分布和電源穩(wěn)定安全輸出,采用一階慣性數(shù)字濾波算法實(shí)現(xiàn)了ADC采樣濾波。設(shè)計(jì)了以PC機(jī)為上位機(jī),主控芯片為下位機(jī)的通訊結(jié)構(gòu),采用VB.net軟件設(shè)計(jì)了人機(jī)交互界面,對(duì)相關(guān)參數(shù)進(jìn)行控制和監(jiān)測(cè)。最后基于以上研究,對(duì)研制的程控脈沖電源進(jìn)行了整機(jī)安裝和調(diào)試,并完成了室內(nèi)模擬實(shí)驗(yàn)及現(xiàn)場(chǎng)管道內(nèi)壁脈沖電流陰極保護(hù)實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了程控脈沖電源設(shè)計(jì)的合理性與可靠性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明程控脈沖電源主電路和控制電路設(shè)計(jì)合理,實(shí)現(xiàn)了設(shè)計(jì)指標(biāo)和功能。電源可以輸出占空比、頻率均可智能調(diào)節(jié)的方波脈沖電流,且使用效果、體積重量、成本及安全性等方面都比傳統(tǒng)防腐電源有明顯的優(yōu)勢(shì),滿足現(xiàn)場(chǎng)使用要求。
袁旺[8]（2020）在《基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)恒電位控制及數(shù)字化》文中認(rèn)為隨著工業(yè)的發(fā)展,金屬的電化學(xué)腐蝕越來越嚴(yán)重,陰極保護(hù)技術(shù)能有效解決金屬的電化學(xué)腐蝕問題。普通直流陰極保護(hù)技術(shù)在應(yīng)用中存在保護(hù)距離短、電位分布不均勻等現(xiàn)象。研究發(fā)現(xiàn),脈沖電流陰極保護(hù)技術(shù)能有效延長保護(hù)金屬的距離、實(shí)現(xiàn)電位均勻分布等。但是由于其參數(shù)較多,應(yīng)用中存在保護(hù)電位響應(yīng)遲滯、電位超調(diào)等現(xiàn)象而難以實(shí)現(xiàn)恒電位控制。論文研究金屬在脈沖電流作用下的恒電位控制系統(tǒng)及其數(shù)字化接口技術(shù),并對(duì)油田站場(chǎng)集輸管道內(nèi)壁進(jìn)行脈沖電流陰極保護(hù)應(yīng)用研究,對(duì)脈沖電流陰極保護(hù)技術(shù)的推廣,解決站場(chǎng)集輸管道內(nèi)壁的腐蝕具有重要意義。本文首先對(duì)脈沖電流陰極保護(hù)的機(jī)理、保護(hù)參數(shù)的選擇、陰極保護(hù)效果的評(píng)價(jià)理論及脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)的數(shù)字化方式進(jìn)行了研究,確定了在脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)中以保護(hù)電位作為唯一評(píng)價(jià)保護(hù)效果的參數(shù)。在實(shí)驗(yàn)室條件下對(duì)影響脈沖電流陰極保護(hù)的程控電源進(jìn)行性能測(cè)試,得出電源的輸出電壓與設(shè)定值之間呈線性關(guān)系。然后在同一個(gè)腐蝕環(huán)境中,采用雙參比系統(tǒng)對(duì)釕銥鈦合金參比電極進(jìn)行了標(biāo)定,結(jié)果表明釕銥鈦合金參比電極所測(cè)負(fù)電位與飽和甘汞電極測(cè)得負(fù)電位相差約590mV。其次對(duì)影響恒電位控制的因素（介質(zhì)電阻率、介質(zhì)溫度、介質(zhì)流速）進(jìn)行實(shí)驗(yàn)研究,得出各影響因素的作用規(guī)律后,再對(duì)脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)的恒電位控制策略進(jìn)行了研究。在軟件控制方式上采用經(jīng)典PID控制算法,并用計(jì)算機(jī)進(jìn)行仿真,結(jié)果表明PID控制算法能夠?qū)㈦娢豢刂圃谛枨蠓秶鷥?nèi);硬件控制上設(shè)計(jì)了雙芯片控制結(jié)構(gòu),主芯片采用STM32F103,副芯片采用ATMEGA16L。并設(shè)計(jì)了基于ATMEGA16L芯片的電流采集電路、保護(hù)電位采集電路,基于STM32F103控制芯片的溫度采集電路、介質(zhì)電阻率采集電路、介質(zhì)流速采集電路及其他輔助電路。在數(shù)字化接口方面,設(shè)計(jì)了基于STM32F103的RS232/485接口電路、以太網(wǎng)接口電路以及USB接口電路等。最后將脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)恒電位控制技術(shù)、數(shù)字化技術(shù)應(yīng)用于油田站場(chǎng)集輸管道內(nèi)壁中。并針對(duì)站場(chǎng)集輸管道的走向、布局以及管道內(nèi)壁脈沖電流陰極保護(hù)的要求設(shè)計(jì)了柔性陽極、點(diǎn)狀陽極以及參比電極的安裝方式,對(duì)數(shù)字化監(jiān)控進(jìn)行安裝調(diào)試。結(jié)果表明,各個(gè)參比電極的測(cè)量電位均恒定控制在合理范圍內(nèi),實(shí)現(xiàn)了集輸管道內(nèi)壁脈沖電流陰極保護(hù)的要求。
張昆[9]（2020）在《Ni-P-（溶膠）Al2O3納米復(fù)合涂層電沉積工藝及涂層性能研究》文中提出納米復(fù)合涂層一般既有基質(zhì)金屬的性能又有所加納米微粒的特性,大大的提高基體自身的物理性能和化學(xué)性能,而且也增長了其服役期限,從而普遍廣泛地應(yīng)用于航空航天、電子信息、化工制造等工程技術(shù)中。隨著電沉積工藝的日益優(yōu)化與納米制造技術(shù)的不斷發(fā)展,納米復(fù)合電沉積的方式種類也逐漸增多,所制備材料表面的特性也較為多元,納米微粒本身的特性對(duì)其復(fù)合涂層的性能有著很大的影響。本課題在鎳磷涂層的基礎(chǔ)上,通過摻入高硬度、耐磨性能好的Al2O3粒子,使用氧化鋁溶膠來代替?zhèn)鹘y(tǒng)的粉體,在基體Q235鋼表面,分別使用直流和脈沖電沉積法制備了Ni-P-（溶膠）Al2O3納米溶膠增強(qiáng)復(fù)合涂層。研究結(jié)果如下:（1）在已有的Ni-P鍍液條件基礎(chǔ)上,加入氧化鋁溶膠,以鍍液溫度、鍍液pH、氧化鋁溶膠用量（濃度mL/L）、電流密度作為四個(gè)因素,用沉積速率作為指標(biāo),采用四因素三水平試驗(yàn)法得出在直流條件下Ni-P-（溶膠）Al2O3復(fù)合涂層的最佳工藝參數(shù)和鍍液配方。最優(yōu)配方為:NiSO4·6H2O 120g/L,H3BO3 30 g/L,NaH2PO2·H2O 15 g/L,NiCl2·6H2O 20 g/L,Al2O3溶膠80mL/L,C12H25SO4Na 0.4 g/L。最佳工藝參數(shù):溫度55℃、pH3.5、電流密度7.0A/dm2。并且發(fā)現(xiàn)電流密度是影響鍍層沉積速度的最大因素。（2）在研究電流密度對(duì)Ni-P-（溶膠）Al2O3復(fù)合涂層性能的影響的中,控制電流密度區(qū)間為4 A/dm29A/dm2。結(jié)果表明,使用電流密度達(dá)到7 A/dm2,鍍速最快為83.924um/h,硬度達(dá)到最大為669.2HV,磨損率為1.768×10-6g·m-1,耐磨性能和耐蝕性能均達(dá)到最優(yōu)。（3）為進(jìn)一步優(yōu)化溶膠復(fù)合涂層,將提供電源的方式由原先的直流換為單向方波脈沖,脈沖頻率固定為1kHz,在占空比設(shè)定的值域（10%90%）內(nèi)找出其最佳值。再使用對(duì)比試驗(yàn)法,分別對(duì)基體、Ni-P涂層、直流條件下及脈沖條件下Ni-P-（溶膠）Al2O3復(fù)合涂層進(jìn)行性能表征。占空比為80%時(shí)脈沖條件下所制備的Ni-P-（溶膠）Al2O3復(fù)合涂層的結(jié)構(gòu)更為致密,沉積更為均勻,硬度最大為863.4HV且具有較好的摩擦磨損性能;Ni-P涂層的摩擦系數(shù)最小;直流Ni-P-（溶膠）Al2O3涂層耐蝕性最好。（4）晶核的生成速率與成長速率共同決定了金屬結(jié)晶時(shí)顆粒的粗細(xì)和緊密程度。當(dāng)晶核的形成速度大于晶核的生長速度時(shí),得到的涂層微觀顯示出金屬結(jié)晶排列緊密、晶粒細(xì)膩。晶核的生成一般分有兩類模型,二維圓盤模型晶核模型和三維半球形狀正圓錐型晶核模型,晶核的生長有二維生長（2D）或三維生長（3D）兩種類型,主要分析了晶核形成和生長中的兩類模型,即瞬時(shí)成核和連續(xù)成核。
戴明杰[10]（2020）在《陰極保護(hù)電位波動(dòng)下X100管線鋼點(diǎn)蝕發(fā)生機(jī)理及生長動(dòng)力學(xué)研究》文中研究說明埋地油氣管線是國家能源運(yùn)輸?shù)年P(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施之一,涂層和陰極保護(hù)相結(jié)合是防止其發(fā)生外腐蝕的主要技術(shù)方法。目前,埋地管線普遍采用“內(nèi)部反饋”回路模式的外加電流陰極保護(hù)技術(shù)。在管線服役過程中,由于土壤物理、化學(xué)、電化學(xué)以及生物等因素連鎖耦合影響,土壤導(dǎo)電性能發(fā)生極大變化,導(dǎo)致埋地管線的陰極保護(hù)電位波動(dòng),進(jìn)而使得管線鋼基體在陰極保護(hù)存在狀態(tài)下依舊發(fā)生點(diǎn)蝕穿孔。本文采用方波極化技術(shù)、掃描電子顯微鏡、點(diǎn)蝕定量統(tǒng)計(jì)、模擬電路模型理論計(jì)算以及多參數(shù)正交試驗(yàn)等方法,對(duì)模擬無氧酸性土壤環(huán)境中陰極保護(hù)電位波動(dòng)下X100管線鋼上點(diǎn)蝕行為進(jìn)行研究,以明確非穩(wěn)態(tài)電化學(xué)狀態(tài)（陰極保護(hù)電位波動(dòng)）下點(diǎn)蝕萌生的電化學(xué)機(jī)理及點(diǎn)蝕生長動(dòng)力學(xué)。主要開展了以下工作:（1）構(gòu)建該電化學(xué)體系的等效電路模型,根據(jù)暫態(tài)電化學(xué)計(jì)算方法和電子電路學(xué)的基礎(chǔ)理論,推導(dǎo)出陰極保護(hù)電位波動(dòng)下電極/溶液界面雙電層處時(shí)域極化電流密度方程及該處頻域電位公式,并通過所推導(dǎo)的頻域電位理論方程定量與半定量的預(yù)測(cè)了點(diǎn)蝕密度的變化狀態(tài)。結(jié)果表明,時(shí)域極化電流密度方程描述了電流脈沖、衰減、穩(wěn)定變化以及電流周期性與加載方波電位間半定量關(guān)系,還闡述了極化電流密度大小與方波電位波動(dòng)幅度間呈正相關(guān)關(guān)系的機(jī)理;通過電極/溶液界面雙電層頻域電位方程預(yù)測(cè)了不同陰極保護(hù)電位波動(dòng)參數(shù)下點(diǎn)蝕密度變化趨勢(shì)。（2）搭建模擬酸性土壤環(huán)境中X100管線鋼的電化學(xué)三電極體系,向管線鋼加載不同波動(dòng)參數(shù)的方波極化信號(hào),定量統(tǒng)計(jì)電極表面點(diǎn)蝕狀態(tài)。結(jié)果表明,陰極保護(hù)電位波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致管線鋼表面產(chǎn)生點(diǎn)蝕,并且點(diǎn)蝕95%發(fā)生于鋼基體之上而只有5%萌生于非金屬夾雜物處;在單一變量條件下,隨著電位波動(dòng)頻率f的增加,統(tǒng)計(jì)點(diǎn)蝕密度值從約450個(gè)·mm-2快速上升至約45000個(gè)·mm-2;當(dāng)電位波動(dòng)幅度E以及波動(dòng)電位總加載時(shí)間tt等參數(shù)增大時(shí),統(tǒng)計(jì)點(diǎn)蝕密度值均呈線性增加趨勢(shì);而電位波動(dòng)占空比δ上升過程中點(diǎn)蝕統(tǒng)計(jì)密度值先從約1100個(gè)·mm-2增大到超過6500個(gè)·mm-2后又減少到約803個(gè)·mm-2,在δ為50%時(shí)點(diǎn)蝕密度值最大。并且由不同陰極保護(hù)電位波動(dòng)參數(shù)下的電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)統(tǒng)計(jì)得到的點(diǎn)蝕密度變化趨勢(shì)可以驗(yàn)證所推導(dǎo)理論公式的正確性。（3）通過正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)得出了陰極保護(hù)電位波動(dòng)參數(shù)對(duì)點(diǎn)蝕密度的影響程度大小。由正交試驗(yàn)結(jié)果可知,電位波動(dòng)參數(shù)對(duì)宏觀點(diǎn)蝕密度影響的順序?yàn)?tt>δ>f>E;當(dāng)f為0.5 Hz,E為-0.95～-0.7 V,δ為50%和tt為3 d時(shí),管線鋼上點(diǎn)蝕密度最大,模擬酸性土壤環(huán)境中陰極保護(hù)電位波動(dòng)對(duì)X100管線鋼局部腐蝕影響最嚴(yán)重。
二、方波脈沖電流陰極保護(hù)機(jī)理研究 Ⅱ電流參數(shù)的影響（論文開題報(bào)告）
（1）論文研究背景及目的
此處內(nèi)容要求：
首先簡(jiǎn)單簡(jiǎn)介論文所研究問題的基本概念和背景，再而簡(jiǎn)單明了地指出論文所要研究解決的具體問題，并提出你的論文準(zhǔn)備的觀點(diǎn)或解決方法。
寫法范例：
本文主要提出一款精簡(jiǎn)64位RISC處理器存儲(chǔ)管理單元結(jié)構(gòu)并詳細(xì)分析其設(shè)計(jì)過程。在該MMU結(jié)構(gòu)中,TLB采用叁個(gè)分離的TLB,TLB采用基于內(nèi)容查找的相聯(lián)存儲(chǔ)器并行查找,支持粗粒度為64KB和細(xì)粒度為4KB兩種頁面大小,采用多級(jí)分層頁表結(jié)構(gòu)映射地址空間,并詳細(xì)論述了四級(jí)頁表轉(zhuǎn)換過程,TLB結(jié)構(gòu)組織等。該MMU結(jié)構(gòu)將作為該處理器存儲(chǔ)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的一個(gè)重要組成部分。
（2）本文研究方法
調(diào)查法：該方法是有目的、有系統(tǒng)的搜集有關(guān)研究對(duì)象的具體信息。
觀察法：用自己的感官和輔助工具直接觀察研究對(duì)象從而得到有關(guān)信息。
實(shí)驗(yàn)法：通過主支變革、控制研究對(duì)象來發(fā)現(xiàn)與確認(rèn)事物間的因果關(guān)系。
文獻(xiàn)研究法：通過調(diào)查文獻(xiàn)來獲得資料，從而全面的、正確的了解掌握研究方法。
實(shí)證研究法：依據(jù)現(xiàn)有的科學(xué)理論和實(shí)踐的需要提出設(shè)計(jì)。
定性分析法：對(duì)研究對(duì)象進(jìn)行“質(zhì)”的方面的研究，這個(gè)方法需要計(jì)算的數(shù)據(jù)較少。
定量分析法：通過具體的數(shù)字，使人們對(duì)研究對(duì)象的認(rèn)識(shí)進(jìn)一步精確化。
跨學(xué)科研究法：運(yùn)用多學(xué)科的理論、方法和成果從整體上對(duì)某一課題進(jìn)行研究。
功能分析法：這是社會(huì)科學(xué)用來分析社會(huì)現(xiàn)象的一種方法，從某一功能出發(fā)研究多個(gè)方面的影響。
模擬法：通過創(chuàng)設(shè)一個(gè)與原型相似的模型來間接研究原型某種特性的一種形容方法。
三、方波脈沖電流陰極保護(hù)機(jī)理研究 Ⅱ電流參數(shù)的影響（論文提綱范文）
（1）微弧氧化負(fù)載等效模型及電流型脈沖變換器的研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 緒論 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 微弧氧化負(fù)載的研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.1 脈沖電參量與膜層關(guān)系的研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.2 微弧氧化負(fù)載等效模型的研究現(xiàn)狀 |
| 1.3 微弧氧化脈沖電源的研究現(xiàn)狀 |
| 1.3.1 脈沖電源拓?fù)涞难芯楷F(xiàn)狀 |
| 1.3.2 控制策略的研究現(xiàn)狀 |
| 1.4 本文主要研究內(nèi)容 |
| 2 微弧氧化負(fù)載等效模型與參數(shù)辨識(shí) |
| 2.1 微弧氧化負(fù)載等效模型 |
| 2.2 參數(shù)辨識(shí)方法 |
| 2.2.1 遞推最小二乘法 |
| 2.2.2 帶遺忘因子的遞推最小二乘法 |
| 2.3 基于帶遺忘因子的遞推最小二乘法的負(fù)載等效模型參數(shù)辨識(shí) |
| 2.3.1 正脈沖作用下的模型參數(shù)辨識(shí) |
| 2.3.2 負(fù)脈沖作用下的模型參數(shù)辨識(shí) |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 3 非對(duì)稱多電平脈沖變換器及其控制策略研究 |
| 3.1 微弧氧化放電反應(yīng)與脈沖形式 |
| 3.2 新型非對(duì)稱多電平脈沖變換器 |
| 3.2.1 脈沖變換器的工作原理 |
| 3.2.2 交錯(cuò)并聯(lián)控制 |
| 3.3 應(yīng)用于微弧氧化技術(shù)中的預(yù)測(cè)電流控制 |
| 3.3.1 預(yù)測(cè)電流控制 |
| 3.3.2 控制器延時(shí)誤差補(bǔ)償 |
| 3.3.3 魯棒性分析 |
| 3.4 本章小結(jié) |
| 4 非對(duì)稱多電平脈沖變換器系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.1 系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案 |
| 4.2 硬件系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.2.1 主電路硬件選型 |
| 4.2.2 驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì) |
| 4.2.3 采樣調(diào)理電路設(shè)計(jì) |
| 4.3 軟件系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.3.1 主程序設(shè)計(jì) |
| 4.3.2 中斷子程序設(shè)計(jì) |
| 4.3.3 交錯(cuò)并聯(lián)程序設(shè)計(jì) |
| 4.3.4 脈沖形式程序設(shè)計(jì) |
| 4.4 本章小結(jié) |
| 5 脈沖變換器仿真與實(shí)驗(yàn)研究 |
| 5.1 脈沖變換器的仿真分析 |
| 5.1.1 交錯(cuò)并聯(lián)對(duì)電流脈沖影響 |
| 5.1.2 控制策略對(duì)脈沖影響 |
| 5.1.3 預(yù)測(cè)電流控制魯棒性分析 |
| 5.1.4 不同工作模式下的脈沖波形 |
| 5.2 脈沖變換器的實(shí)驗(yàn)分析 |
| 5.2.1 交錯(cuò)并聯(lián)對(duì)電流脈沖影響 |
| 5.2.2 控制策略對(duì)電流脈沖影響 |
| 5.2.3 不同工作模式下的脈沖波形 |
| 5.3 本章小結(jié) |
| 6 總結(jié)與展望 |
| 致謝 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 攻讀碩士學(xué)位期間主要成果 |
（2）鋰、鎂電解過程雜質(zhì)電化學(xué)行為研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 緒論 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 金屬鋰的性質(zhì)及應(yīng)用 |
| 1.3 金屬鎂的性質(zhì)及應(yīng)用 |
| 1.4 熔鹽電解概述 |
| 1.4.1 熔鹽簡(jiǎn)介 |
| 1.4.2 熔鹽電解技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用 |
| 1.5 鋰鎂電解發(fā)展與現(xiàn)狀 |
| 1.6 熔鹽電解電極過程研究進(jìn)展 |
| 1.6.1 低溫鋁電解 |
| 1.6.2 稀土電分離 |
| 1.6.3 難熔金屬電解 |
| 1.6.4 非金屬電解 |
| 1.6.5 雜質(zhì)來源及危害 |
| 1.6.6 雜質(zhì)電化學(xué)行為研究現(xiàn)狀 |
| 1.7 研究意義與內(nèi)容 |
| 第2章 實(shí)驗(yàn)方法及參比電極制備 |
| 2.1 實(shí)驗(yàn)用試劑、儀器、裝置 |
| 2.1.1 主要化學(xué)試劑 |
| 2.1.2 主要實(shí)驗(yàn)儀器 |
| 2.1.3 主要實(shí)驗(yàn)裝置 |
| 2.2 電解質(zhì)及電極預(yù)處理 |
| 2.2.1 電解質(zhì)準(zhǔn)備 |
| 2.2.2 電極預(yù)處理 |
| 2.3 主要電化學(xué)方法 |
| 2.4 參比電極制備及評(píng)價(jià) |
| 2.4.1 參比電極制備 |
| 2.4.2 參比電極性能評(píng)價(jià) |
| 2.5 分析與表征 |
| 2.6 小結(jié) |
| 第3章 鋰電解過程輕金屬雜質(zhì)離子電化學(xué)行為 |
| 3.1 鋰電解過程Mg(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 3.1.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 3.1.2 Mg(Ⅱ)/Mg體系在LiCl-KCl熔鹽中熱力學(xué)性質(zhì) |
| 3.1.3 Mg(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 3.1.4 Mg(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 3.2 鋰電解過程Al(Ⅲ)電化學(xué)行為 |
| 3.2.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 3.2.2 Al(Ⅲ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 3.2.3 Al(Ⅲ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 3.3 小結(jié) |
| 第4章 鋰電解過程過渡族金屬雜質(zhì)離子電化學(xué)行為 |
| 4.1 鋰電解過程Mn(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 4.1.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 4.1.2 Mn(Ⅱ)/Mn(0)體系在LiCl-KCl中的熱力學(xué)性質(zhì) |
| 4.1.3 Mn(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 4.1.4 Mn(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 4.2 鋰電解過程N(yùn)i(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 4.2.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 4.2.2 Ni(Ⅱ)/Ni(0)體系在LiCl-KCl中的熱力學(xué)性質(zhì) |
| 4.2.3 Ni(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 4.2.4 Ni(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 4.3 鋰電解過程Fe(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 4.3.1 熔鹽中FeCl_3的存在狀態(tài) |
| 4.3.2 Fe(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 4.3.3 Fe(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 4.4 小結(jié) |
| 第5章 鎂電解過程過渡族金屬雜質(zhì)離子電化學(xué)行為 |
| 5.1 鎂電解過程Mn(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 5.1.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 5.1.2 Mn(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 5.1.3 Mn(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 5.2 鎂電解過程N(yùn)i(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 5.2.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 5.2.2 Ni(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 5.2.3 Ni(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 5.3 鎂電解過程Fe(Ⅱ)電化學(xué)行為 |
| 5.3.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 5.3.2 Fe(Ⅱ)在鎢電極上的動(dòng)力學(xué) |
| 5.3.3 Fe(Ⅱ)在鎢電極上的沉積機(jī)理 |
| 5.4 小結(jié) |
| 第6章 鋰電解過程含氧雜質(zhì)行為研究 |
| 6.1 鋰電解過程H_2O電化學(xué)行為 |
| 6.1.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 6.1.2 金屬鋰的溶解 |
| 6.2 鋰電解過程LiOH電化學(xué)行為 |
| 6.2.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 6.2.2 金屬鋰的溶解 |
| 6.3 鋰電解過程Li_2O電化學(xué)行為 |
| 6.3.1 電極反應(yīng)機(jī)理 |
| 6.3.2 金屬鋰的沉積機(jī)理 |
| 6.3.3 金屬鋰的溶解 |
| 6.4 鋰電解過程SO_4~(2-)電化學(xué)行為 |
| 6.5 小結(jié) |
| 第7章 結(jié)論與展望 |
| 7.1 結(jié)論 |
| 7.2 創(chuàng)新點(diǎn) |
| 7.3 不足與展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 攻讀學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)成果 |
| 致謝 |
（3）射流掩膜電解放電脈沖電源研制及加工技術(shù)研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 本課題研究背景與意義 |
| 1.2 射流電解加工國內(nèi)外研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.1 射流電解加工研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.2 脈沖電解電源的研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.3 電化學(xué)放電加工的研究現(xiàn)狀 |
| 1.3 本課題來源和研究內(nèi)容 |
| 1.3.1 課題來源 |
| 1.3.2 論文主要研究內(nèi)容 |
| 第二章 射流掩膜電解放電加工實(shí)驗(yàn)平臺(tái)開發(fā) |
| 2.1 射流掩膜電解放電加工裝置 |
| 2.2 平臺(tái)伺服運(yùn)動(dòng)控制 |
| 2.3 平臺(tái)系統(tǒng)及控制界面 |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 第三章 基于SimPowerSystems的電源整流濾波研究 |
| 3.1 電源總體設(shè)計(jì)方案 |
| 3.1.1 電源參數(shù)設(shè)計(jì)要求 |
| 3.1.2 方案對(duì)比分析 |
| 3.2 三相橋式全控整流電路特性研究 |
| 3.2.1 三相整流模塊的選擇與計(jì)算 |
| 3.2.2 三相橋式整流仿真研究 |
| 3.3 電容濾波電路計(jì)算 |
| 3.4 本章小結(jié) |
| 第四章 基于狀態(tài)空間法的Z源逆變器控制研究 |
| 4.1 電源Z源逆變器及其作用 |
| 4.2 電源Z源逆變器的基本工作原理 |
| 4.3 狀態(tài)空間平均法建模 |
| 4.3.1 控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)分析 |
| 4.3.2 控制器設(shè)計(jì) |
| 4.3.3 Z源逆變控制器閉環(huán)仿真 |
| 4.4 控制器電路測(cè)試及分析 |
| 4.4.1 直通占空比電路設(shè)計(jì) |
| 4.4.2 驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì) |
| 4.5 本章小結(jié) |
| 第五章 脈沖電源變換電路及控制系統(tǒng)研究 |
| 5.1 脈沖電源輸出波形變換電路研究 |
| 5.2 基于Simulink仿真的Buck電路研究 |
| 5.2.1 開關(guān)器件及頻率特性研究 |
| 5.2.2 Buck電路仿真分析研究 |
| 5.3 基于嵌入式處理器的高頻脈寬調(diào)制器 |
| 5.3.1 系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案及其原理功能分析 |
| 5.3.2 系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì)研究 |
| 5.3.3 電源系統(tǒng)軟件設(shè)計(jì) |
| 5.4 電源的集成及抗干擾 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 第六章 射流掩膜電解放電加工放電特性與機(jī)理研究 |
| 6.1 射流掩膜電解放電實(shí)驗(yàn)研究 |
| 6.1.1 加工過程中的放電現(xiàn)象 |
| 6.1.2 放電條件下的凹坑形貌特性分析 |
| 6.2 加工電場(chǎng)仿真分析研究 |
| 6.3 放電機(jī)理分析 |
| 6.4 本章小結(jié) |
| 第七章 射流掩膜電解放電加工工藝實(shí)驗(yàn)研究 |
| 7.1 Jet-MECDM和Jet-MECM的對(duì)比實(shí)驗(yàn) |
| 7.1.1 靜止方式 |
| 7.1.2 掃描移動(dòng)方式 |
| 7.2 射流掩膜電解放電加工試驗(yàn)研究 |
| 7.2.1 脈沖電壓峰值對(duì)凹坑形貌的影響 |
| 7.2.2 脈沖電壓頻率對(duì)凹坑形貌的影響 |
| 7.2.3 脈沖電壓占空比對(duì)凹坑形貌的影響 |
| 7.2.4 加工間距對(duì)凹坑形貌的影響 |
| 7.3 射流掩膜電解放電加工正交試驗(yàn)研究 |
| 7.3.1 試驗(yàn)參數(shù)及水平選定 |
| 7.3.2 試驗(yàn)結(jié)果分析 |
| 7.4 本章小結(jié) |
| 結(jié)論與展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 攻讀學(xué)位期間取得與學(xué)位論文相關(guān)的成果 |
| 致謝 |
（4）脈沖波形下污泥脫水特性及參數(shù)優(yōu)化研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 污泥的基本概述 |
| 1.2.1 污泥的來源 |
| 1.2.2 污泥的分類 |
| 1.2.3 污泥的危害 |
| 1.2.4 污泥的性質(zhì)和常見指標(biāo) |
| 1.2.5 污泥中水分分布 |
| 1.3 污泥處理和處置 |
| 1.3.1 污泥處理方法 |
| 1.3.2 污泥處置現(xiàn)狀 |
| 1.4 污泥脫水 |
| 1.4.1 脫水前調(diào)節(jié) |
| 1.4.2 脫水能耗 |
| 1.5 污泥干化技術(shù) |
| 1.5.1 污泥熱干化過程 |
| 1.5.2 污泥熱干化速率影響因素 |
| 1.5.3 污泥熱干化技術(shù)現(xiàn)狀 |
| 1.6 污泥電滲脫水 |
| 1.6.1 電滲脫水技術(shù)介紹 |
| 1.6.2 電滲脫水工作原理 |
| 1.6.3 電滲脫水的影響因素 |
| 1.6.4 電滲脫水裝置條件優(yōu)化 |
| 1.6.5 電滲脫水技術(shù)的利弊 |
| 1.6.6 脈沖電滲脫水技術(shù)的現(xiàn)狀 |
| 1.7 研究目的和研究內(nèi)容 |
| 1.7.1 研究目的 |
| 1.7.2 研究內(nèi)容 |
| 第二章 實(shí)驗(yàn)材料與實(shí)驗(yàn)方法 |
| 2.1 實(shí)驗(yàn)材料 |
| 2.1.1 實(shí)驗(yàn)裝置 |
| 2.1.2 實(shí)驗(yàn)儀器和藥品 |
| 2.2 實(shí)驗(yàn)工況設(shè)計(jì)和方法 |
| 2.2.1 污泥脈沖電滲脫水實(shí)驗(yàn)工況設(shè)計(jì) |
| 2.2.2 污泥脈沖電滲脫水實(shí)驗(yàn)方法 |
| 2.3 實(shí)驗(yàn)測(cè)試及分析方法 |
| 2.3.1 污泥含水率測(cè)定 |
| 2.3.2 污泥pH值、電導(dǎo)率測(cè)定 |
| 2.3.3 濾液pH值測(cè)定 |
| 2.3.4 濾液化學(xué)需氧量(COD)值測(cè)定 |
| 2.3.5 電滲脫水能耗計(jì)算方法 |
| 第三章 脈沖波形對(duì)污泥電滲脫水性能影響研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 電滲脈沖參數(shù)對(duì)電滲脫水性能影響規(guī)律 |
| 3.2.1 實(shí)驗(yàn)方法 |
| 3.2.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果討論與分析 |
| 3.3 脈沖參數(shù)對(duì)電滲透處理污泥性能研究 |
| 3.3.1 污泥中溫度、電流隨時(shí)間變化 |
| 3.3.2 污泥濾液質(zhì)量、厚度隨時(shí)間變化 |
| 3.3.3 污泥、濾液pH值變化 |
| 3.3.4 污泥電導(dǎo)率、濾液化學(xué)需氧量(COD)值變化 |
| 3.4 電滲脫水能耗計(jì)算 |
| 3.5 本章小結(jié) |
| 第四章 高效脈沖電滲工況下污泥性質(zhì)的變化 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 高效脈沖電滲污泥脫水影響規(guī)律 |
| 4.2.1 實(shí)驗(yàn)方法 |
| 4.2.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 4.3 高效脈沖電滲污泥脫水性能研究 |
| 4.3.1 污泥濾液質(zhì)量、厚度隨時(shí)間變化 |
| 4.3.2 濾液中總有機(jī)碳(TOC)值變化 |
| 4.3.3 三維熒光光譜表征污泥有機(jī)物遷移規(guī)律 |
| 4.3.4 SEM掃描電子顯微鏡表征污泥結(jié)構(gòu)變化規(guī)律 |
| 4.4 本章小結(jié) |
| 第五章 污泥脈沖電滲脫水工藝參數(shù)優(yōu)化研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì) |
| 5.2.1 正交實(shí)驗(yàn)影響因素和水平選擇 |
| 5.2.2 正交實(shí)驗(yàn)方法 |
| 5.3 正交實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析 |
| 5.3.1 污泥脈沖電滲脫水工藝參數(shù)對(duì)污泥脫水特性影響 |
| 5.3.3 污泥脈沖電滲脫水工藝參數(shù)對(duì)污泥含水率影響 |
| 5.4 污泥脈沖電滲脫水工藝參數(shù)下能耗計(jì)算 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 第六章 全文研究工作總結(jié)與展望 |
| 6.1 全文研究工作總結(jié) |
| 6.2 工作展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)成果 |
| 致謝 |
（5）串聯(lián)式浪涌保護(hù)器核電磁脈沖響應(yīng)特性研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 緒論 |
| 1.1 研究背景及意義 |
| 1.2 高空核電磁脈沖環(huán)境 |
| 1.2.1 核電磁脈沖產(chǎn)生機(jī)理 |
| 1.2.2 高空核電磁脈沖輻射環(huán)境 |
| 1.3 天線的核電磁脈沖耦合 |
| 1.3.1 核電磁脈沖耦合 |
| 1.3.2 天線的核電磁脈沖傳導(dǎo)耦合特點(diǎn) |
| 1.3.3 天線的核電磁脈沖防護(hù)需求 |
| 1.4 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀 |
| 1.4.1 核電磁脈沖天線耦合研究現(xiàn)狀 |
| 1.4.2 浪涌保護(hù)器響應(yīng)特性研究現(xiàn)狀 |
| 1.5 本文主要研究工作 |
| 第2章 典型核電磁脈沖防護(hù)器件 |
| 2.1 氣體放電管工作原理及其防護(hù)參數(shù) |
| 2.1.1 氣體放電管工作原理 |
| 2.1.2 氣體放電管防護(hù)參數(shù) |
| 2.2 壓敏電阻工作原理及其防護(hù)參數(shù) |
| 2.2.1 壓敏電阻工作原理 |
| 2.2.2 壓敏電阻防護(hù)參數(shù) |
| 2.3 組合型浪涌保護(hù)器 |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 第3章 測(cè)試系統(tǒng)建立和實(shí)驗(yàn)方案設(shè)計(jì) |
| 3.1 脈沖注入系統(tǒng) |
| 3.1.1 測(cè)量原理與系統(tǒng)構(gòu)成 |
| 3.1.2 設(shè)備選用 |
| 3.2 電流測(cè)試系統(tǒng) |
| 3.2.1 測(cè)量原理與系統(tǒng)構(gòu)成 |
| 3.2.2 設(shè)備選用 |
| 3.3 連接線系統(tǒng) |
| 3.3.1 均勻傳輸線 |
| 3.3.2 特性阻抗與阻抗匹配 |
| 3.4 實(shí)驗(yàn)方案 |
| 3.4.1 方波脈沖注入實(shí)驗(yàn)方案 |
| 3.4.2 核電磁脈沖注入實(shí)驗(yàn)方案 |
| 3.5 小結(jié) |
| 第4章 實(shí)驗(yàn)與機(jī)理分析 |
| 4.1 氣體放電管的電磁脈沖響應(yīng)特性 |
| 4.1.1 氣體放電管的方波脈沖響應(yīng)特性 |
| 4.1.2 氣體放電管的核電磁脈沖響應(yīng)特性 |
| 4.2 壓敏電阻的核電磁脈沖響應(yīng)特性 |
| 4.2.1 箝位電壓與注入脈沖幅值關(guān)系 |
| 4.2.2 過沖峰值電壓與注入脈沖幅值關(guān)系 |
| 4.2.3 響應(yīng)時(shí)間與注入脈沖幅值關(guān)系 |
| 4.2.4 電壓變化率與過沖峰值電壓和響應(yīng)時(shí)間的關(guān)系 |
| 4.3 串聯(lián)式浪涌保護(hù)器的核電磁脈沖響應(yīng)特性 |
| 4.3.1 箝位電壓與注入脈沖幅值關(guān)系 |
| 4.3.2 脈沖擊穿電壓與注入幅值關(guān)系 |
| 4.3.3 響應(yīng)時(shí)間與注入脈沖幅值關(guān)系 |
| 4.3.4 電壓變化率與脈沖擊穿電壓和脈寬關(guān)系 |
| 4.3.5 串聯(lián)式浪涌保護(hù)器與氣體放電管和壓敏電阻響應(yīng)特性對(duì)比 |
| 4.4 本章小結(jié) |
| 第5章 總結(jié)展望 |
| 5.1 論文總結(jié) |
| 5.2 研究展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 個(gè)人簡(jiǎn)歷、在學(xué)期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文及研究成果 |
（6）脈沖陰極保護(hù)研究現(xiàn)狀及在鋁合金防護(hù)上的應(yīng)用展望（論文提綱范文）
| 1 脈沖陰極保護(hù)研究現(xiàn)狀 |
| 2 船用鋁合金陰極保護(hù)現(xiàn)狀 |
| 3 脈沖陰極保護(hù)在鋁合金防護(hù)上的展望 |
| 4 結(jié)語 |
（7）基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)程控電源研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 研究脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)程控電源的意義 |
| 1.3 陰極保護(hù)電源的發(fā)展現(xiàn)狀及方向 |
| 1.3.1 國外發(fā)展現(xiàn)狀 |
| 1.3.2 國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀 |
| 1.3.3 發(fā)展方向 |
| 1.4 主要研究內(nèi)容及工作思路 |
| 1.4.1 主要工作研究內(nèi)容 |
| 1.4.2 研究思路及技術(shù)路線 |
| 1.4.3 創(chuàng)新點(diǎn) |
| 1.5 論文結(jié)構(gòu)安排 |
| 1.6 本章小結(jié) |
| 第二章 脈沖電流陰極保護(hù)原理及系統(tǒng)總體設(shè)計(jì) |
| 2.1 管內(nèi)脈沖電流陰極保護(hù)原理概述 |
| 2.1.1 管道內(nèi)壁金屬腐蝕本質(zhì) |
| 2.1.2 管內(nèi)脈沖電流陰極保護(hù)原理 |
| 2.2 管道內(nèi)壁陰極保護(hù)評(píng)價(jià)方法 |
| 2.2.1 保護(hù)電位 |
| 2.2.2 保護(hù)電流密度 |
| 2.3 管道內(nèi)壁脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng) |
| 2.3.1 系統(tǒng)基本特點(diǎn) |
| 2.3.2 系統(tǒng)總體結(jié)構(gòu) |
| 2.4 管道內(nèi)壁輔助陽極設(shè)計(jì) |
| 2.4.1 輔助陽極選型 |
| 2.4.2 輔助陽極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 2.4.3 輔助陽極安裝設(shè)計(jì) |
| 2.5 管道內(nèi)壁參比電極設(shè)計(jì) |
| 2.5.1 參比電極選型 |
| 2.5.2 參比電極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 2.5.3 參比電極安裝設(shè)計(jì) |
| 2.6 本章小結(jié) |
| 第三章 基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)程控電源電路設(shè)計(jì) |
| 3.1 電源整體模塊設(shè)計(jì) |
| 3.2 電源主電路設(shè)計(jì) |
| 3.3 一次整流濾波模塊設(shè)計(jì) |
| 3.3.1 單相整流橋計(jì)算 |
| 3.3.2 濾波電容計(jì)算 |
| 3.4 全橋逆變模塊設(shè)計(jì) |
| 3.4.1 開關(guān)頻率 |
| 3.4.2 開關(guān)方式 |
| 3.4.3 開關(guān)裝置選型 |
| 3.4.4 開關(guān)裝置結(jié)構(gòu)和參數(shù)計(jì)算 |
| 3.4.5 開關(guān)裝置并聯(lián)電容計(jì)算 |
| 3.4.6 隔離電容計(jì)算 |
| 3.5 高頻變壓器的分析設(shè)計(jì) |
| 3.5.1 高頻變壓器的設(shè)計(jì)特點(diǎn) |
| 3.5.2 磁芯材料 |
| 3.5.3 磁芯結(jié)構(gòu) |
| 3.5.4 高頻變壓器參數(shù)計(jì)算 |
| 3.6 二次整流濾波及直流斬波模塊設(shè)計(jì) |
| 3.6.1 全波整流電路設(shè)計(jì) |
| 3.6.2 二次濾波電路設(shè)計(jì) |
| 3.7 程控脈沖電源的散熱方式 |
| 3.8 主電路的仿真研究 |
| 3.8.1 仿真模型建立 |
| 3.8.2 仿真結(jié)果分析 |
| 3.9 本章小結(jié) |
| 第四章 程控脈沖電源控制系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì) |
| 4.1 控制系統(tǒng)硬件功能分析 |
| 4.1.1 控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 4.1.2 控制系統(tǒng)功能配置 |
| 4.2 主控芯片選型 |
| 4.3 芯片資源分配 |
| 4.4 主控芯片最小系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.4.1 時(shí)鐘電路 |
| 4.4.2 復(fù)位電路 |
| 4.4.3 供電電路 |
| 4.5 主控芯片PWM輸出模式 |
| 4.6 驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì) |
| 4.7 信號(hào)采樣電路的設(shè)計(jì) |
| 4.7.1 保護(hù)電位采樣設(shè)計(jì) |
| 4.7.2 電流采樣電路設(shè)計(jì) |
| 4.7.3 電壓采樣電路設(shè)計(jì) |
| 4.8 過熱保護(hù)電路設(shè)計(jì) |
| 4.9 人機(jī)交互界面硬件設(shè)計(jì) |
| 4.10 控制系統(tǒng)供電模塊設(shè)計(jì) |
| 4.11 本章小結(jié) |
| 第五章 程控脈沖電源控制系統(tǒng)軟件設(shè)計(jì) |
| 5.1 控制系統(tǒng)軟件開發(fā)流程 |
| 5.2 控制系統(tǒng)軟件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 5.3 主控芯片PWM控制策略 |
| 5.3.1 全橋逆變模塊PWM實(shí)現(xiàn)方法 |
| 5.3.2 全橋逆變模塊PWM控制策略 |
| 5.3.3 直流斬波模塊PWM實(shí)現(xiàn)方法 |
| 5.3.4 直流斬波模塊PWM控制策略 |
| 5.4 保護(hù)電位控制策略 |
| 5.4.1 數(shù)字PID閉環(huán)控制算法 |
| 5.4.2 數(shù)字PID閉環(huán)控制結(jié)構(gòu) |
| 5.4.3 多級(jí)自適應(yīng)閉環(huán)控制策略 |
| 5.5 數(shù)字濾波算法設(shè)計(jì) |
| 5.6 軟件抗干擾設(shè)計(jì) |
| 5.6.1 獨(dú)立看門狗IWDG |
| 5.6.2 窗口看門狗WWDG |
| 5.6.3 中斷服務(wù)程序 |
| 5.7 通訊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 5.7.1 數(shù)據(jù)傳輸方式 |
| 5.7.2 通訊參數(shù)設(shè)置 |
| 5.7.3 數(shù)據(jù)通訊流程 |
| 5.8 上位機(jī)人機(jī)交互界面設(shè)計(jì) |
| 5.9 本章小結(jié) |
| 第六章 基于程控脈沖電源的陰極保護(hù)系統(tǒng)整體調(diào)試 |
| 6.1 控制系統(tǒng)軟件調(diào)試 |
| 6.2 電源安裝調(diào)試 |
| 6.2.1 電源硬件調(diào)試 |
| 6.2.2 控制系統(tǒng)測(cè)試 |
| 6.3 模擬管內(nèi)陰極保護(hù)電位監(jiān)測(cè)實(shí)驗(yàn) |
| 6.3.1 實(shí)驗(yàn)方案 |
| 6.3.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析 |
| 6.4 管內(nèi)脈沖電流陰極保護(hù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)驗(yàn) |
| 6.4.1 實(shí)驗(yàn)材料及設(shè)備 |
| 6.4.2 實(shí)驗(yàn)方案 |
| 6.4.3 理論電流計(jì)算 |
| 6.4.4 電位趨勢(shì)分析 |
| 6.4.5 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 6.5 進(jìn)一步研究和完善系統(tǒng)的幾點(diǎn)建議 |
| 6.6 本章小結(jié) |
| 第七章 結(jié)論與展望 |
| 7.1 結(jié)論 |
| 7.2 展望 |
| 致謝 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 攻讀學(xué)位期間參加科研情況及獲得的學(xué)術(shù)成果 |
（8）基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)恒電位控制及數(shù)字化（論文提綱范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 研究背景及意義 |
| 1.2 恒電位控制及數(shù)字化的國內(nèi)外研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.1 恒電位控制理論及控制方式 |
| 1.2.2 保護(hù)電位分布的研究 |
| 1.2.3 陰極保護(hù)技術(shù)的數(shù)字化 |
| 1.2.4 恒電位控制及數(shù)字化應(yīng)用研究 |
| 1.3 研究內(nèi)容及思路 |
| 1.3.1 研究內(nèi)容 |
| 1.3.2 研究思路及技術(shù)路線 |
| 1.4 論文總體安排及創(chuàng)新點(diǎn) |
| 1.4.1 總體安排 |
| 1.4.2 創(chuàng)新點(diǎn) |
| 第二章 脈沖電流陰極保護(hù)恒電控制理論研究 |
| 2.1 脈沖電流陰極保護(hù)機(jī)理及保護(hù)參數(shù)選擇 |
| 2.2 陰極保護(hù)效果評(píng)價(jià) |
| 2.2.1 保護(hù)效果評(píng)價(jià)理論 |
| 2.2.2 保護(hù)電位分布規(guī)律研究 |
| 2.3 脈沖電流陰極保護(hù)的數(shù)字化方式 |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 第三章 恒電位影響因素研究 |
| 3.1 實(shí)驗(yàn)介質(zhì)及儀器 |
| 3.1.1 實(shí)驗(yàn)介質(zhì) |
| 3.1.2 實(shí)驗(yàn)介質(zhì)的電阻率 |
| 3.1.3 實(shí)驗(yàn)儀器 |
| 3.2 電源性能研究 |
| 3.3 參比電極測(cè)量準(zhǔn)確性研究 |
| 3.3.1 參比電極的種類及分類 |
| 3.3.2 鈦基合金電極的標(biāo)定 |
| 3.4 金屬的保護(hù)電位 |
| 3.5 油水混合液中的脈沖電流陰極保護(hù)電位 |
| 3.6 溫度對(duì)保護(hù)電位的影響 |
| 3.7 流速對(duì)保護(hù)電位的影響 |
| 3.8 本章小結(jié) |
| 第四章 脈沖電流陰極保護(hù)恒電位控制系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì) |
| 4.1 恒電位控制系統(tǒng)的需求功能分析 |
| 4.2 脈沖電流陰極保護(hù)的程控電源 |
| 4.3 恒電位控制策略 |
| 4.3.1 軟件控制 |
| 4.3.2 硬件控制 |
| 4.4 恒電位控制硬件電路 |
| 4.4.1 保護(hù)電位采集電路 |
| 4.4.2 輸出電流采集電路 |
| 4.4.3 溫度采集電路 |
| 4.4.4 流速采集電路 |
| 4.4.5 介質(zhì)電阻率采集電路 |
| 4.4.6 故障報(bào)警電路 |
| 4.4.7 看門狗電路 |
| 4.5 本章小結(jié) |
| 第五章 脈沖電流陰極保護(hù)恒電位控制系統(tǒng)的數(shù)字化 |
| 5.1 RS232 通訊接口電路 |
| 5.2 RS485 通訊接口電路 |
| 5.3 以太網(wǎng)通訊接口 |
| 5.4 USB通訊接口 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 第六章 恒電位控制系統(tǒng)及數(shù)字化的現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用研究 |
| 6.1 集輸管道內(nèi)壁陰極保護(hù)的系統(tǒng)組成 |
| 6.2 輔助陽極的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與安裝 |
| 6.2.1 輔助陽極的類型 |
| 6.2.2 點(diǎn)狀陽極的保護(hù)距離 |
| 6.2.3 柔性陽極的保護(hù)距離 |
| 6.2.4 電極的安裝 |
| 6.3 恒電位控制在集輸管道內(nèi)壁的應(yīng)用 |
| 6.4 脈沖電流陰極保護(hù)在集輸管道內(nèi)壁應(yīng)用中的安全問題研究 |
| 6.5 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)安裝與調(diào)試 |
| 6.5.1 數(shù)字化配套接口 |
| 6.5.2 陰極保護(hù)電位信號(hào)傳送器 |
| 6.5.3 模擬量采集器的安裝調(diào)試 |
| 6.5.4 觸摸屏數(shù)據(jù)采集與顯示 |
| 6.6 電位監(jiān)測(cè)效果分析 |
| 6.7 本章小結(jié) |
| 第七章 結(jié)論與展望 |
| 7.1 結(jié)論 |
| 7.2 展望 |
| 致謝 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 攻讀學(xué)位期間參加科研情況及獲得的學(xué)術(shù)成果 |
（9）Ni-P-（溶膠）Al2O3納米復(fù)合涂層電沉積工藝及涂層性能研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 電沉積納米復(fù)合涂層研究 |
| 1.2.1 納米復(fù)合電沉積機(jī)理 |
| 1.2.2 復(fù)合電沉積的沉積方式 |
| 1.2.3 納米復(fù)合涂層的國內(nèi)外研究現(xiàn)狀 |
| 1.3 電沉積過程動(dòng)力學(xué)分析方法 |
| 1.3.1 循環(huán)伏安法 |
| 1.3.2 電位階躍法 |
| 1.3.3 電化學(xué)阻抗譜法 |
| 1.4 課題來源及主要研究內(nèi)容 |
| 1.4.1 課題來源 |
| 1.4.2 主要研究內(nèi)容 |
| 1.5 本章小結(jié) |
| 第二章 實(shí)驗(yàn)材料與檢測(cè)方法 |
| 2.1 實(shí)驗(yàn)材料及儀器 |
| 2.1.1 化學(xué)試劑及規(guī)格 |
| 2.1.2 實(shí)驗(yàn)儀器 |
| 2.1.3 實(shí)驗(yàn)裝置 |
| 2.2 實(shí)驗(yàn)技術(shù)路線工藝流程 |
| 2.2.1 實(shí)驗(yàn)技術(shù)路線 |
| 2.2.2 實(shí)驗(yàn)工藝流程 |
| 2.2.3 試樣鍍前預(yù)處理 |
| 2.3 性能檢測(cè)與表征方法 |
| 2.3.1 涂層硬度的測(cè)量 |
| 2.3.2 涂層沉積速度的測(cè)量 |
| 2.3.3 涂層的微觀形貌和成分分析 |
| 2.3.4 涂層的耐磨性測(cè)試 |
| 2.3.5 涂層的耐腐蝕性檢測(cè) |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 第三章 直流條件下溶膠涂層的制備與性能研究 |
| 3.1 電沉積制備Ni-P-(溶膠)Al_2O_3 涂層的研究 |
| 3.1.1 復(fù)合涂層鍍液的配制 |
| 3.1.2 復(fù)合鍍液工藝參數(shù)研究 |
| 3.1.3 正交實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)溶膠復(fù)合涂層硬度的影響 |
| 3.1.4 正交實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)溶膠復(fù)合涂層耐蝕性能的影響 |
| 3.1.5 正交實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)溶膠復(fù)合涂層耐磨性能的影響 |
| 3.1.6 正交實(shí)驗(yàn)中參數(shù)對(duì)溶膠復(fù)合涂層表面形貌的影響 |
| 3.2 電流密度對(duì)Ni-P-(溶膠)Al_2O_3 涂層的研究 |
| 3.2.1 電流密度對(duì)沉積速度的影響 |
| 3.2.2 電流密度對(duì)溶膠復(fù)合涂層硬度的影響 |
| 3.2.3 電流密度對(duì)溶膠復(fù)合涂層表面形貌的影響 |
| 3.2.4 電流密度對(duì)溶膠復(fù)合涂層耐蝕性能的影響 |
| 3.2.5 電流密度對(duì)溶膠復(fù)合涂層耐磨性能的影響 |
| 3.3 本章小結(jié) |
| 第四章 脈沖電沉積溶膠涂層的制備與性能表征 |
| 4.1 脈沖占空比對(duì)Ni-P-(溶膠)Al_2O_3 涂層的研究 |
| 4.1.1 脈沖電沉積鍍液的選擇 |
| 4.1.2 脈沖占空比對(duì)沉積速度的影響 |
| 4.1.3 脈沖占空比對(duì)復(fù)合涂層顯微硬度的影響 |
| 4.1.4 脈沖占空比對(duì)復(fù)合涂層耐蝕性能的影響 |
| 4.1.5 脈沖占空比對(duì)溶膠復(fù)合涂層表面形貌的影響 |
| 4.1.6 占空比對(duì)溶膠復(fù)合涂層耐磨性能的影響 |
| 4.2 脈沖涂層與其他涂層的對(duì)比表征 |
| 4.2.1 涂層硬度 |
| 4.2.2 涂層結(jié)構(gòu)與表面形貌 |
| 4.2.3 耐蝕性能 |
| 4.2.4 耐磨性能 |
| 4.2.5 性能表征對(duì)比結(jié)果 |
| 4.3 本章小結(jié) |
| 第五章 鎳基電結(jié)晶沉積動(dòng)力學(xué)分析 |
| 5.1 電沉積化學(xué)反應(yīng) |
| 5.2 電結(jié)晶過程 |
| 5.3 電結(jié)晶動(dòng)力學(xué)研究 |
| 5.3.1 二維圓盤模式下的初始暫態(tài)電流 |
| 5.3.2 三維生長的暫態(tài)電流 |
| 5.4 本章小結(jié) |
| 第六章 結(jié)論與展望 |
| 6.1 研究結(jié)論 |
| 6.2 課題展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 攻讀學(xué)位期間取得的研究成果 |
（10）陰極保護(hù)電位波動(dòng)下X100管線鋼點(diǎn)蝕發(fā)生機(jī)理及生長動(dòng)力學(xué)研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 緒論 |
| 1.1 前言 |
| 1.2 陰極保護(hù)技術(shù)介紹 |
| 1.2.1 陰極保護(hù)基本原理 |
| 1.2.2 埋地長輸管道陰極保護(hù)系統(tǒng) |
| 1.2.3 埋地長輸管道陰極保護(hù)重要參數(shù) |
| 1.3 非穩(wěn)態(tài)電位/電流狀態(tài)下陰極保護(hù)研究現(xiàn)狀 |
| 1.3.1 雜散電流下陰極保護(hù)行為研究 |
| 1.3.2 脈沖電流陰極保護(hù)技術(shù) |
| 1.3.3 非穩(wěn)態(tài)電位狀態(tài)下陰極保護(hù) |
| 1.4 非穩(wěn)態(tài)電位/電流條件下電極反應(yīng)動(dòng)力學(xué)研究 |
| 1.4.1 暫態(tài)電化學(xué)狀態(tài)下的電化學(xué)動(dòng)力學(xué)參數(shù) |
| 1.4.2 利用等效模型電路推導(dǎo)非穩(wěn)態(tài)電化學(xué)動(dòng)力學(xué)參數(shù) |
| 1.5 本文研究內(nèi)容及意義 |
| 第2章 實(shí)驗(yàn)材料及方法 |
| 2.1 實(shí)驗(yàn)材料 |
| 2.1.1 API X100管線鋼 |
| 2.1.2 電化學(xué)試樣制備與處理 |
| 2.1.3 模擬酸性土壤溶液 |
| 2.2 實(shí)驗(yàn)方法 |
| 2.2.1 陰極保護(hù)電位波動(dòng)的模擬方法 |
| 2.2.2 動(dòng)電位極化 |
| 2.2.3 電化學(xué)阻抗譜 |
| 2.2.4 點(diǎn)蝕觀察方法 |
| 2.2.5 理論計(jì)算方法 |
| 2.2.6 正交試驗(yàn)方法 |
| 第3章 電位波動(dòng)頻率和總加載時(shí)間變化對(duì)點(diǎn)蝕萌生機(jī)理及生長動(dòng)力學(xué)影響 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 SWP狀態(tài)下電流密度響應(yīng)狀態(tài) |
| 3.3 不同狀態(tài)SWP對(duì)點(diǎn)蝕行為的影響 |
| 3.3.1 電位波動(dòng)頻率變化時(shí)的點(diǎn)蝕行為 |
| 3.3.2 電位總加載時(shí)間變化時(shí)的點(diǎn)蝕行為 |
| 3.4 點(diǎn)蝕萌生的位置與成分 |
| 3.5 電極體系等效電路模型及相關(guān)動(dòng)力學(xué)理論計(jì)算 |
| 3.5.1 時(shí)域下極化電流密度理論計(jì)算 |
| 3.5.2 頻域下電極/溶液界面雙電層電位變化理論計(jì)算 |
| 3.5.3 電極體系等效電路模型其他元件電位/電流理論計(jì)算 |
| 3.6 總加載時(shí)間對(duì)點(diǎn)蝕行為的影響 |
| 3.7 本章結(jié)論 |
| 第4章 電位波動(dòng)幅度對(duì)點(diǎn)蝕萌生機(jī)理及生長動(dòng)力學(xué)的影響 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 電位波動(dòng)幅度對(duì)管線鋼電化學(xué)行為的影響 |
| 4.2.1 開路電位 |
| 4.2.2 電位波動(dòng)幅度對(duì)極化電流密度的影響 |
| 4.2.3 電位波動(dòng)幅度對(duì)點(diǎn)蝕行為的影響 |
| 4.3 電位波動(dòng)幅度對(duì)電化學(xué)狀態(tài)的影響機(jī)理 |
| 4.3.1 電位波動(dòng)幅度對(duì)極化電流密度的影響機(jī)理 |
| 4.3.2 電位波動(dòng)幅度對(duì)點(diǎn)蝕密度的影響機(jī)制 |
| 4.3.3 電位波動(dòng)幅度對(duì)腐蝕形貌變化的影響機(jī)制 |
| 4.4 本章結(jié)論 |
| 第5章 電位占空比對(duì)點(diǎn)蝕萌生及生長行為的影響 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 電位占空比變化與電化學(xué)阻抗譜的關(guān)系 |
| 5.3 電位占空比變化對(duì)宏觀形貌的影響 |
| 5.3.1 占空比變化對(duì)表面銹層的影響 |
| 5.3.2 占空比變化對(duì)點(diǎn)蝕行為的影響 |
| 5.4 電位占空比變化對(duì)與電化學(xué)腐蝕行為影響機(jī)制 |
| 5.5 本章結(jié)論 |
| 第6章 正交方法評(píng)估電位波動(dòng)參數(shù)對(duì)點(diǎn)蝕萌生和生長行為的影響程度 |
| 6.1 前言 |
| 6.2 電位波動(dòng)參數(shù)對(duì)宏觀點(diǎn)蝕行為影響的正交結(jié)果分析 |
| 6.2.1 正交試驗(yàn)后管線鋼點(diǎn)蝕形貌 |
| 6.2.2 正交試驗(yàn)結(jié)果極差分析 |
| 6.2.3 正交試驗(yàn)結(jié)果方差分析 |
| 6.3 本章結(jié)論 |
| 第7章 全文結(jié)論及展望 |
| 7.1 全文總結(jié) |
| 7.2 本研究創(chuàng)新點(diǎn) |
| 7.3 課題展望 |
| 致謝 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 附錄1 攻讀博士學(xué)位期間取得的科研成果 |
| 附錄2 攻讀博士學(xué)位期間參加的科研項(xiàng)目 |
四、方波脈沖電流陰極保護(hù)機(jī)理研究 Ⅱ電流參數(shù)的影響（論文參考文獻(xiàn)）
- [1]微弧氧化負(fù)載等效模型及電流型脈沖變換器的研究[D]. 王宇鵬. 西安理工大學(xué), 2021(01)
- [2]鋰、鎂電解過程雜質(zhì)電化學(xué)行為研究[D]. 劉兆庭. 華東理工大學(xué), 2021(08)
- [3]射流掩膜電解放電脈沖電源研制及加工技術(shù)研究[D]. 陳朝大. 廣東工業(yè)大學(xué), 2021(08)
- [4]脈沖波形下污泥脫水特性及參數(shù)優(yōu)化研究[D]. 周捷. 東華大學(xué), 2021(01)
- [5]串聯(lián)式浪涌保護(hù)器核電磁脈沖響應(yīng)特性研究[D]. 楊雨楓. 湘潭大學(xué), 2020(02)
- [6]脈沖陰極保護(hù)研究現(xiàn)狀及在鋁合金防護(hù)上的應(yīng)用展望[J]. 周冬,李國明,遲均瀚,陳珊. 裝備環(huán)境工程, 2020(06)
- [7]基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)程控電源研究[D]. 張瀟祥. 西安石油大學(xué), 2020(11)
- [8]基于脈沖電流陰極保護(hù)系統(tǒng)恒電位控制及數(shù)字化[D]. 袁旺. 西安石油大學(xué), 2020(10)
- [9]Ni-P-（溶膠）Al2O3納米復(fù)合涂層電沉積工藝及涂層性能研究[D]. 張昆. 河南科技學(xué)院, 2020
- [10]陰極保護(hù)電位波動(dòng)下X100管線鋼點(diǎn)蝕發(fā)生機(jī)理及生長動(dòng)力學(xué)研究[D]. 戴明杰. 武漢科技大學(xué), 2020(01)
標(biāo)簽：陰極保護(hù)論文; 污泥脫水機(jī)論文; 電脈沖論文; 過程控制論文; 機(jī)理分析論文;