一、變間距光柵刻線密度測(cè)試系統(tǒng)的性能評(píng)價(jià)（論文文獻(xiàn)綜述）
趙美紅[1]（2021）在《消像差凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)建模與一體化設(shè)計(jì)》文中進(jìn)行了進(jìn)一步梳理隨著光學(xué)遙感技術(shù)的發(fā)展及其在航空航天領(lǐng)域越來越廣泛的應(yīng)用,對(duì)于成像光譜系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo),如相對(duì)孔徑、光譜分辨率、空間分辨率和對(duì)弱信號(hào)的探測(cè)能力要求越來越高;同時(shí)為了適應(yīng)無人機(jī)等新型遙感平臺(tái)的快速發(fā)展和搭載需求,小型化、輕量化已成為機(jī)載和星載成像光譜系統(tǒng)的另一個(gè)發(fā)展趨勢(shì)。凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)基于Offner同心結(jié)構(gòu),光學(xué)性能好、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊,滿足輕小型化需求;而且,其應(yīng)用受材料限制和環(huán)境影響很小,易實(shí)現(xiàn)焦面穩(wěn)定性、光譜穩(wěn)定性和寬波段光譜成像,適用于空間環(huán)境。因此,以凸面全息光柵為核心分光元件的成像光譜儀廣泛應(yīng)用于遙感領(lǐng)域以及與國(guó)民經(jīng)濟(jì)發(fā)展密切相關(guān)的各領(lǐng)域,如航空、國(guó)防、自然災(zāi)害、農(nóng)林、資源勘探、海洋監(jiān)測(cè)、食品安全、藥學(xué)檢測(cè)、醫(yī)學(xué)檢測(cè)以及加工制造等。鑒于此,本論文展開了對(duì)基于Offner同心光譜分光系統(tǒng)的凸面全息光柵成像光譜儀的研究,目標(biāo)是研制具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的消像差凸面全息光柵以及消像差凸面全息光柵成像光譜儀,針對(duì)凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)消像差的理論、結(jié)構(gòu)與設(shè)計(jì)方法開展相關(guān)研究,突破消像差凸面全息光柵及消像差凸面全息光柵成像光譜儀研制的關(guān)鍵理論與技術(shù),并為凸面全息光柵成像光譜儀的批量化生產(chǎn)提供條件。本論文的研究?jī)?nèi)容主要分為以下幾個(gè)部分:第一,提出了采用消像差凸面光柵作為Offner成像光譜儀核心分光器件的設(shè)計(jì)方法,與傳統(tǒng)的凸面光柵相比,消像差凸面光柵同時(shí)具有分光和像差校正能力,可以對(duì)因色散而引入的系統(tǒng)像差進(jìn)行校正,保留了標(biāo)準(zhǔn)的雙元件三反射系統(tǒng)的同心結(jié)構(gòu),克服了傳統(tǒng)的凸面光柵成像光譜系統(tǒng)消像差技術(shù)的缺陷。第二,建立了凸面光柵成像光譜系統(tǒng)的像差理論模型?；谫M(fèi)馬原理,推導(dǎo)了凸面光柵成像光譜系統(tǒng)的像面點(diǎn)列圖函數(shù),構(gòu)建了凸面光柵成像光譜系統(tǒng)的各類像差關(guān)于凸面光柵記錄參數(shù)與使用結(jié)構(gòu)參數(shù)的函數(shù)關(guān)系,并通過MATLAB仿真軟件與ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)軟件對(duì)凸面光柵成像光譜系統(tǒng)進(jìn)行了建模與仿真分析,為應(yīng)用于成像光譜儀的消像差凸面光柵的優(yōu)化設(shè)計(jì)提供了理論指導(dǎo)。第三,設(shè)計(jì)了應(yīng)用于Offner同心羅蘭圓結(jié)構(gòu)的消像差凸面光柵。針對(duì)凸面光柵成像光譜系統(tǒng)的主要像差——像散,分析了凸面光柵成像光譜系統(tǒng)的聚焦條件,推導(dǎo)了光柵刻線函數(shù)系數(shù)與凸面光柵成像光譜系統(tǒng)像散的數(shù)學(xué)關(guān)系,并基于光程函數(shù)理論對(duì)凸面光柵成像光譜系統(tǒng)進(jìn)行了消像散的優(yōu)化設(shè)計(jì)。第四,基于凸面光柵的像差校正理論,開展了消像差凸面光柵及成像光譜儀的一體化設(shè)計(jì)研究并對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的成像性能進(jìn)行了評(píng)價(jià)。依據(jù)凸面光柵刻線函數(shù)擬合的優(yōu)化方法,對(duì)凸面光柵成像光譜系統(tǒng)進(jìn)行一體化優(yōu)化設(shè)計(jì),并針對(duì)成像光譜儀的前置望遠(yuǎn)系統(tǒng)與成像光譜系統(tǒng)數(shù)值孔徑的匹配問題,采用多重結(jié)構(gòu)優(yōu)化的方法,對(duì)整體系統(tǒng)的像差進(jìn)行均衡分配,實(shí)現(xiàn)了全工作光譜范圍內(nèi)的高質(zhì)量成像。第五,基于全息再現(xiàn)原理,優(yōu)化設(shè)計(jì)了消像差凸面全息光柵的曝光結(jié)構(gòu)。依據(jù)光程函數(shù)理論,建立了非球面波曝光系統(tǒng)的理論模型并推導(dǎo)了點(diǎn)列圖均方根優(yōu)化函數(shù),結(jié)合Offner中繼成像系統(tǒng)的成像特性與全息再現(xiàn)原理,以全局化的優(yōu)化算法——遺傳算法對(duì)消像差凸面全息光柵的曝光系統(tǒng)與其成像光譜系統(tǒng)進(jìn)行一體化優(yōu)化設(shè)計(jì),對(duì)優(yōu)化設(shè)計(jì)的消像差凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)的性能進(jìn)行分析,為消像差凸面全息光柵的可行性提供了技術(shù)保障。
吳新樸,韋懷坤,劉正坤,邱克強(qiáng),徐向東,洪義麟[2]（2021）在《用于檢測(cè)光柵線密度的長(zhǎng)程面形儀系統(tǒng)》文中提出衍射光柵已被廣泛應(yīng)用于同步輻射光源軟X射線與真空紫外光柵單色器中,光柵線密度偏差會(huì)直接影響單色器的性能。為了檢測(cè)光柵線密度的偏差,本文在合肥先進(jìn)光源預(yù)研過程中搭建了長(zhǎng)程面形儀（LTP）系統(tǒng)。使用自準(zhǔn)直儀對(duì)LTP檢測(cè)光柵系統(tǒng)在26μrad內(nèi)的檢測(cè)精度進(jìn)行了標(biāo)定。利用LTP對(duì)自主研制的760 line/mm與2400 line/mm等間距光柵進(jìn)行線密度均勻性檢測(cè),使用干涉儀對(duì)760 line/mm光柵進(jìn)行0級(jí)與1級(jí)衍射波前檢測(cè),并將檢測(cè)結(jié)果與LTP測(cè)量結(jié)果進(jìn)行比較。結(jié)果表明:系統(tǒng)標(biāo)定的均方根誤差為30 nrad,與干涉儀檢測(cè)結(jié)果相比,兩者同位置處的高度輪廓曲線具有較好的一致性。這說明搭建的LTP系統(tǒng)具有較高精度的檢測(cè)光柵線密度的能力,為檢測(cè)同步輻射光柵線密度的變化提供了平臺(tái)。
杜亮亮[3]（2017）在《合肥光源平面光柵單色器設(shè)計(jì)及調(diào)試》文中進(jìn)行了進(jìn)一步梳理同步輻射裝置是基礎(chǔ)科學(xué)研究領(lǐng)域的重要研究工具,其中,光束線是連接實(shí)驗(yàn)站和光源的橋梁,需要把復(fù)色的同步輻射光處理成具有一定尺寸、一定發(fā)散角和一定能量分辨率的單色光。光束線的核心為單色器,在真空紫外-軟X波段主要為光柵分光單色器,其中平面光柵單色器以其光學(xué)元件加工簡(jiǎn)單,適應(yīng)范圍廣等受到廣泛應(yīng)用。本文工作依托于合肥光源進(jìn)行的重大維修改造項(xiàng)目詳細(xì)研究了平面光柵單色器的性能特點(diǎn)和關(guān)鍵技術(shù),主要包括以下內(nèi)容:1.詳細(xì)研究了真空紫外-軟X射線光束線最常用的兩種平面光柵單色器（準(zhǔn)直型SX-700平面光柵單色器和自聚焦平面變間距光柵單色器）的光學(xué)特點(diǎn),總結(jié)了這兩種單色器的特點(diǎn)和應(yīng)用范圍。研究發(fā)現(xiàn)影響兩種單色器的主要因素一致,但自聚焦平面變間距光柵單色器由于光柵的像差校正功能使得其比準(zhǔn)直型SX-700 平面光柵單色器少了兩塊反射鏡,而反射鏡會(huì)占據(jù)一定的空間,這就會(huì)導(dǎo)致相同條件下準(zhǔn)直型SX-700平面光柵單色器入射臂和出射臂的長(zhǎng)度相較自聚焦平面變間距光柵單色器更短,從而導(dǎo)致分辨率的降低。同時(shí)由于多了兩塊反射鏡,也會(huì)導(dǎo)致效率的降低。因此,在光束線長(zhǎng)度確定的情況下,自聚焦平面變間距光柵單色器的光譜分辨率和光學(xué)系統(tǒng)效率更好。但是,準(zhǔn)直型SX-700平面光柵單色器可以通過選取不同的焦點(diǎn)常數(shù)而實(shí)現(xiàn)高通量模式、高次諧波抑制模式和高分辨運(yùn)行模式,并能通過調(diào)節(jié)焦點(diǎn)常數(shù)以改變出射狹縫處的相空間,這是其最大的優(yōu)點(diǎn)。這些研究具有創(chuàng)新性,并能為同類光束線的設(shè)計(jì)提供了基礎(chǔ)。2.合肥光源重大維修改造項(xiàng)目中的軟X成像光束線的設(shè)計(jì)工作。新建的軟X成像光束線站性能較原來有較大提升。軟X成像光束線從扭擺器中引出,覆蓋能量范圍200～2500 eV。光束線采用準(zhǔn)直型SX-700平面光柵單色器,使用線密度分別為760 1/mm和1400 1/mm的平面光柵覆蓋整個(gè)能量范圍。光束線主要性能指標(biāo):光子通量大于1×1012phs/s@300mA;能量分辨優(yōu)于500 @ 520eV;出射狹縫處發(fā)散角為2.6 mrad（H）× 2.8 mrad（V）。3.合肥光源重大維修改造項(xiàng)目中的燃燒光束線的設(shè)計(jì)工作。燃燒光束線的性能較原來的光束線有了全面的升級(jí),極大地拓展了同步輻射在燃燒領(lǐng)域的應(yīng)用。燃燒光束線從波蕩器中引出,覆蓋能量范圍4.8～20 eV。光束線采用掠入射Czerny-Turner型平面光柵單色器,使用線密度分別為2001/mm和4001/mm的平面光柵覆蓋整個(gè)能量范圍。光束線的主要性能指標(biāo)為:光子通量5×1012phs/s@300 mA:能量分辨優(yōu)于3000 @15.8 eV。4.詳細(xì)介紹了合肥光源重大維修改造項(xiàng)目中新建三條光束線,軟X成像光束線（準(zhǔn)直型SX-700平面光柵單色器）、燃燒光束線（掠入射Czerny-Turner型平面光柵單色器）和催化與表面科學(xué)光束線（自聚焦平面變間距光柵單色器）的安裝調(diào)試工作以及平面光柵單色器的相關(guān)技術(shù)（包括光學(xué)元件的檢測(cè)、精密狹縫、精密導(dǎo)軌的測(cè)試以及單色器的能量標(biāo)定）的研究。最后對(duì)燃燒光束線和催化與表面科學(xué)光束線的性能進(jìn)行了詳細(xì)測(cè)試,測(cè)試結(jié)果顯示光束線的性能指標(biāo)滿足設(shè)計(jì)要求。其中催化與表面科學(xué)光束線的實(shí)際運(yùn)行的分辨本領(lǐng)優(yōu)于10000@29.2 eV.性能達(dá)到國(guó)際同類裝置先進(jìn)水平。
唐雅玲[4]（2016）在《平面非等周期雙光柵系統(tǒng)成像研究》文中提出由兩平面等周期光柵組成的雙光柵系統(tǒng)能繞過障礙物對(duì)物體成清晰的虛像,具有獨(dú)特的色散-匯合光譜成像效應(yīng)。而平面非等周期光柵具有自聚焦等獨(dú)特優(yōu)點(diǎn),可對(duì)物體成放大、縮小的虛像與實(shí)像,由它組成的雙光柵系統(tǒng)對(duì)物體的成像有什么樣的特點(diǎn)與規(guī)律值得研究。因此,本文研究平面非等周期雙光柵系統(tǒng)的成像,探索這樣的雙光柵系統(tǒng)的成像特性、認(rèn)識(shí)新規(guī)律,為平面非等周期雙光柵系統(tǒng)在更多領(lǐng)域中的應(yīng)用提供參考。論文首先對(duì)單片平面二維弧線形非等周期光柵的一級(jí)衍射實(shí)像像散、放大率進(jìn)行了研究。自制了不同空間頻率分布的平面二維弧線形非等周期光柵,通過實(shí)驗(yàn)測(cè)量光柵的一級(jí)衍射實(shí)像像散、放大率,分析光柵參數(shù)對(duì)衍射像像散和放大率的影響得出了二維弧線形非等周期光柵的像散與光柵空間頻率分布表達(dá)式中系數(shù)B、B’的關(guān)系,以及消像散入射角與光柵空間頻率分布表達(dá)式中B、B’、C的關(guān)系。繼而,根據(jù)平面二維弧線形非等周期光柵的像散研究,選取適合成像的光柵搭建了兩類由等周期光柵與非等周期光柵組成的平面非等周期雙光柵系統(tǒng)進(jìn)行成像研究。結(jié)果表明,在一定的條件下,來自觀察物的復(fù)色光經(jīng)過這兩類系統(tǒng)后都能形成匯合光束,匯合光束中不同波長(zhǎng)的光能分別成實(shí)像和放大虛像;得出了這系統(tǒng)形成匯合光束的條件與成像特性,即系統(tǒng)中兩片光柵的間距與物距、光柵空間頻率分布的關(guān)系,以及像距、放大率與物距、入射波長(zhǎng)的關(guān)系。據(jù)此,本文還設(shè)計(jì)出了對(duì)物體成像具有放大效果的系統(tǒng)。
王慶博[5]（2015）在《軟X射線并聯(lián)平場(chǎng)光柵的設(shè)計(jì)和制作》文中研究表明平場(chǎng)光柵是掠入射平場(chǎng)譜儀中的核心光學(xué)元件,具有像差校正、高分辨和平焦場(chǎng)的優(yōu)點(diǎn),易與平面探測(cè)器件耦合。得益于近幾年平面探測(cè)器件的快速發(fā)展,掠入射平場(chǎng)光柵光譜儀已廣泛地應(yīng)用于軟X射線波段等離子診斷中。然而平場(chǎng)光柵的工作波段有限。為了拓寬平場(chǎng)光柵的工作波段,我們提出了一種并聯(lián)平場(chǎng)光柵的概念,即將兩塊工作參數(shù)相同、工作波段不同的平場(chǎng)光柵制作在同一基底上。兩子光柵（G1和G2）的工作波段分別為2～5nm和5～25nm。并聯(lián)平場(chǎng)光柵可以利用同一狹縫,同一探測(cè)器,同時(shí)記錄下瞬時(shí)的等離子體信息,因此并聯(lián)平場(chǎng)光柵的工作波段為兩組子光柵工作波段的疊加（2～25nm）。本論文的目的是設(shè)計(jì)和制作并聯(lián)平場(chǎng)光柵,論文的主要內(nèi)容包括：1.并聯(lián)平場(chǎng)光柵的參數(shù)設(shè)計(jì)?；诠獬毯瘮?shù)理論,利用遺傳算法,優(yōu)化設(shè)計(jì)了并聯(lián)平場(chǎng)光柵的參數(shù)。優(yōu)化后的光柵入射角度為88°,基底曲率半徑為9245mm。在整個(gè)工作波段內(nèi)校正了像差,得到了光柵線密度變化系數(shù)?；趪?yán)格耦合波理論,優(yōu)化了并聯(lián)平場(chǎng)光柵的槽型參數(shù),計(jì)算了光柵的衍射效率,并將并聯(lián)平場(chǎng)光柵的衍射效率和標(biāo)準(zhǔn)平場(chǎng)光柵的衍射效率進(jìn)行了對(duì)比。2.并聯(lián)平場(chǎng)光柵記錄光路的參數(shù)優(yōu)化。基于T. Namioka的非球面波曝光理論,選擇遺傳算法為優(yōu)化算法,優(yōu)化并確定了記錄光路的參數(shù),分析了記錄光路優(yōu)化后的光柵線密度與理論設(shè)計(jì)的光柵線密度的偏差,G1的線密度偏差在±0.4線/mm以內(nèi),G2的線密度偏差在士1線/mm以內(nèi),滿足設(shè)計(jì)要求。對(duì)記錄光路中各個(gè)參數(shù)誤差對(duì)線密度的影響進(jìn)行了詳細(xì)地分析,確定了敏感參數(shù),為實(shí)際記錄光路的搭建提供了理論指導(dǎo)?；诠饩€追跡理論,計(jì)算了并聯(lián)平場(chǎng)光柵的理論分辨能力,并將其與標(biāo)準(zhǔn)平場(chǎng)光柵的分辨能力做了對(duì)比。結(jié)果顯示,者的分辨能力相當(dāng)。3.并聯(lián)平場(chǎng)光柵的制作。闡述了其制作工藝以及用到的儀器設(shè)備,詳細(xì)介紹了并聯(lián)平場(chǎng)光柵記錄光路的搭建過程并分析了搭建過程中誤差對(duì)線密度的影響,結(jié)果證明光路搭建過程中的精度滿足制作并聯(lián)平場(chǎng)光柵的要求。由于并聯(lián)平場(chǎng)光柵包含兩個(gè)子光柵,因此兩子光柵的對(duì)準(zhǔn)精度將直接影響并聯(lián)平場(chǎng)光柵的分辨能力,給出了理論的對(duì)準(zhǔn)誤差范圍（<0.366°）,介紹了實(shí)際過程中兩組子光柵的對(duì)準(zhǔn),詳細(xì)分析了對(duì)準(zhǔn)過程中各誤差的情況,結(jié)果表明實(shí)際的對(duì)準(zhǔn)誤差<0.234°,滿足設(shè)計(jì)要求。針對(duì)實(shí)際制作中遇到的問題,給出了具體的解決方法,詳細(xì)研究了制作過程中關(guān)鍵的工藝參數(shù),并給出了各工藝參數(shù)以及該工藝中的槽型參數(shù),其結(jié)果符合設(shè)計(jì)的槽型參數(shù)范圍。4.并聯(lián)平場(chǎng)光柵線密度的測(cè)量。分別采用了衍射自準(zhǔn)直和雙波長(zhǎng)衍射法測(cè)量了光柵的線密度,給出了詳細(xì)的測(cè)量系統(tǒng)和過程,分析了測(cè)量誤差。測(cè)量結(jié)果顯示,制作的并聯(lián)平場(chǎng)光柵的線密度與理論設(shè)計(jì)的線密度偏差均不超過士0.5%,符合設(shè)計(jì)要求。研制結(jié)果表明,并聯(lián)平場(chǎng)光柵既拓寬了平場(chǎng)光柵的工作波段,又保證了其分辨能力。裝備有并聯(lián)平場(chǎng)光柵的光譜儀將更適于記錄寬波段的等離子體信息。
陳火耀[6]（2015）在《軟X射線全息平焦場(chǎng)光柵的研制》文中研究表明在核聚變、天體物理和材料研究等領(lǐng)域,極紫外／軟X射線光譜特征分析是其研究的重要手段,極紫外／軟X射線掠入射平焦場(chǎng)光柵譜儀由于能耦合平面探測(cè)器,獲得具有時(shí)空分辨的光譜分析,目前已被廣泛采用。極紫外／軟X射線平焦場(chǎng)光柵是其核心光學(xué)元件,主要有刻劃光柵和全息光柵兩種,目前全息光柵可以替代刻劃光柵用于光譜儀的搭建,而且相比之下,全息光柵有高次諧波抑制效果好、低雜散光和低散射光等優(yōu)點(diǎn)。本課題主要研究應(yīng)用于0.8-6nm波段的平焦場(chǎng)光柵的設(shè)計(jì)和制作,論文的主要內(nèi)容包括：1、基于凹面消像差光柵的像差理論,并結(jié)合實(shí)測(cè)的光柵基底曲率半徑優(yōu)化了應(yīng)用在0.8-6nm平焦場(chǎng)光柵的線密度分布參數(shù)；利用光程差理論設(shè)計(jì)了工藝上可行的非球面波記錄光路；使用嚴(yán)格耦合波方法給出了光柵的槽型結(jié)構(gòu)參數(shù)及其允許的工藝寬容度。2、由于光柵不同區(qū)域成像特性的差別,導(dǎo)致了在1.3nm以下的光譜分辨率低,針對(duì)各個(gè)區(qū)域的成像特點(diǎn),通過調(diào)節(jié)不同區(qū)域的衍射效率來調(diào)節(jié)各區(qū)域成像在最終成像中所占的比重,以提高1.3nm以下的光譜分辨率。另一方面,全息光柵的條紋彎曲會(huì)帶來光譜像的彎曲,從而影響分辨率,從制作光路的角度我們給出了光柵條紋的調(diào)整方法,最終提出利用柱面反射鏡替代球面反射鏡以獲得近似直的光譜像,能有效的改善2nm以上的光譜分辨率。3、光柵的制作工藝：系統(tǒng)分析了曝光光路的調(diào)節(jié)誤差對(duì)線密度分布的影響,并發(fā)現(xiàn)了誤差之間可以相互補(bǔ)償；利用非球面波記錄光路制作了光刻膠光柵掩模,利用灰化技術(shù)獲得了期望的占寬比,最后利用離子束刻蝕將光刻膠圖形轉(zhuǎn)移到融石英基底上,獲得了占寬比為0.35±0.1,槽深9±1nm的Laminar全息平焦場(chǎng)光柵；探索了采用柱面反射鏡制作平焦場(chǎng)光柵的可行性,發(fā)現(xiàn)了由于柱面反射鏡加工方法帶來的應(yīng)用問題。4、利用位相片搭建了基于自準(zhǔn)直衍射法的線密度測(cè)量系統(tǒng),分析了偏心誤差對(duì)測(cè)量的影響,并給出了利用光柵本身特性調(diào)整降低偏心誤差的方法。利用該系統(tǒng)測(cè)量了制作的全息光柵,最終的線密度偏差在±0.5%以內(nèi),滿足設(shè)計(jì)要求。5、最后提出使用近場(chǎng)全息曝光結(jié)合離子束刻蝕的方法制作軟X射線全息平焦場(chǎng)光柵,并從理論上分析其可行性。分析制作過程中不同的曝光配置下光柵線密度分布的轉(zhuǎn)移誤差及其控制,探討了德國(guó)耶拿大學(xué)電子束光刻設(shè)備制作掩模板的相關(guān)問題,主要包括高變化率線密度分布的近似實(shí)現(xiàn)方式及其對(duì)光譜成像質(zhì)量的影響。
高彥春[7]（2014）在《平面非等周期光柵的成像特性研究》文中研究說明平面非等周期光柵除了具有人們熟知的色散、聚焦等衍射特性之外,還具有成像特性,在工程技術(shù)和科學(xué)研究領(lǐng)域中具有廣闊的應(yīng)用前景。關(guān)于平面非等周期透射光柵的成像特性還有許多物理特性尚未弄清,從而制約了它的應(yīng)用。因此,深入研究平面非等周期透射光柵的成像特性,既有利于探索成像現(xiàn)像、認(rèn)識(shí)新規(guī)律,又可以為平面非等周期光柵在更多領(lǐng)域中的應(yīng)用提供參考。論文對(duì)平面非等周期透射光柵的成像特性進(jìn)行了研究。首先對(duì)一維平面非等周期光柵的成像特性,從理論與實(shí)驗(yàn)兩方面進(jìn)行研究。在理論上,利用Fermat原理對(duì)一維非等周期光柵的衍射成像進(jìn)行理論分析,得出了衍射像的物像關(guān)系、放大率及像差與光柵的空間頻率分布的關(guān)系式;并設(shè)計(jì)制作了一維非等周期光柵進(jìn)行成像實(shí)驗(yàn),得出的實(shí)驗(yàn)結(jié)果與理論分析相吻合;然后,對(duì)平面二維圓弧形非等周期光柵的成像特性進(jìn)行分析研究,通過理論分析與實(shí)驗(yàn)觀測(cè)研究了二維圓弧形非等周期光柵的成像特性,得到衍射像的物像關(guān)系、放大率及像差等影響因素,并對(duì)各影響因素的影響規(guī)律進(jìn)行分析。通過對(duì)平面一維及二維圓弧形非等周期光柵的實(shí)驗(yàn)與理論的研究得出:光柵空間頻率分布的二次方程表達(dá)式中一次項(xiàng)系數(shù)B、常數(shù)C主要影響其衍射像的物像關(guān)系、放大率;入射光波長(zhǎng)越大,像距越小、放大率越小;入射角對(duì)像散的影響較大,在特定入射角下,其像散為0,成像質(zhì)量最佳,在偏離此特定入射角時(shí),像散變大,成像質(zhì)量越差。
李朝陽[8]（2014）在《變線距光柵單色器設(shè)計(jì)及關(guān)鍵技術(shù)》文中研究指明同步輻射光源不斷發(fā)展,從最初的高能物理加速裝置到第四代光源自由電子激光,光源的性能不斷提高。光束線作為連接光源和實(shí)驗(yàn)站的橋梁,需要能夠充分利用光源的特性,因此對(duì)光束線的光譜分辨率、光傳輸效率等方面提出了更高的要求。光束線的核心是單色器,在軟X-光波段中,有三種主要的單色器：定包含角球面光柵單色器（Dragon）、變包含角平面光柵單色器（SX-700類）和變線距光柵單色器。由于變線距光柵單色器中光學(xué)元件少和元件面型簡(jiǎn)單,容易實(shí)現(xiàn)高的光譜分辨率和達(dá)到高的傳輸效率,近年來得到了廣泛應(yīng)用。本文討論變線距光柵單色器原理、設(shè)計(jì)及實(shí)現(xiàn)高光譜分辨率需要的關(guān)鍵技術(shù)。主要內(nèi)容包括：1、合肥光源（NSRL）重大改造中的表面物理光束線建設(shè)。表面物理光束線從真空波蕩器中引出,覆蓋的能量范圍為20-600eV,整個(gè)光束線的長(zhǎng)度為19300mm。前置聚焦系統(tǒng)采用柱面鏡垂直放置5：1聚焦到入射狹縫,采用自聚焦平面變線距光柵單色器作為分光系統(tǒng),后置聚焦系統(tǒng)采用超環(huán)面鏡在兩個(gè)方向上聚焦到樣品處。光束線的技術(shù)指標(biāo)為：光通量5×1010photons/s@29eV,樣品處光斑0.2x0.1mm2,能量分辨本領(lǐng)10000（E/△E）@29eV。2、大連化物所相干光源（DCLS）光束線建設(shè)。DCLS作為第四代同步輻射光源,具有輻射波長(zhǎng)可調(diào)、不受電子躍遷能級(jí)的限制；頻譜范圍廣；亮度和峰值功率極高、且可調(diào)；相干性好,又有偏振性；具有短脈沖時(shí)間結(jié)構(gòu)、且時(shí)間結(jié)構(gòu)可調(diào)等諸多優(yōu)點(diǎn)。建成后的DCLS將是世界上第一臺(tái)工作在極紫外波段（50-150nm）的自由電子激光器。同基于儲(chǔ)存環(huán)的同步輻射光束線相比,四代光源的光束線設(shè)計(jì)將會(huì)面臨新的挑戰(zhàn)。比如光源脈沖結(jié)構(gòu)與光譜分辨的關(guān)系,高瞬時(shí)功率對(duì)光學(xué)元件鍍膜的影響,光源的光譜在線診斷等。DICP-FEL共建有四條分支光束線,每條分支光束線分時(shí)用光,光源點(diǎn)（飽和長(zhǎng)度）在6m-12m內(nèi)變化。各條光束線光學(xué)傳輸效率（反射率）不同,最高可達(dá)85%,最低的可達(dá)到45%,可以根據(jù)需要開展實(shí)驗(yàn)。利用超環(huán)面鏡和平面變線距光柵構(gòu)成了光譜儀,用于對(duì)光源進(jìn)行在線的診斷,光譜診斷系統(tǒng)的分辨本領(lǐng)達(dá)12000。在FERMI@Elettra實(shí)驗(yàn)室,其光譜診斷系統(tǒng)的波長(zhǎng)掃描是通過兩個(gè)相互垂直的直線導(dǎo)軌配合工作。本方案直接將聚焦曲線擬合成圓,通過弧形導(dǎo)軌實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)掃描,精度以及穩(wěn)定性將會(huì)更加強(qiáng),具有創(chuàng)新性。3、光柵單色器的高光譜分辨不僅與光學(xué)設(shè)計(jì)相關(guān),同工程實(shí)施中的各項(xiàng)誤差控制等關(guān)鍵技術(shù)也息息相關(guān)。掌握相應(yīng)的關(guān)鍵技術(shù),是保證實(shí)現(xiàn)光學(xué)設(shè)計(jì)的高光譜分辨率指標(biāo)的基礎(chǔ)。這些關(guān)鍵技術(shù)主要包括：高精度直線導(dǎo)軌、轉(zhuǎn)角測(cè)量機(jī)構(gòu)、光學(xué)元件檢測(cè)技術(shù)、狹縫在線檢測(cè)技術(shù)、光束線安裝準(zhǔn)直技術(shù)和單色器調(diào)試技術(shù)等。本文對(duì)這些關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了相應(yīng)的研究,其中狹縫的寬度在線檢測(cè)、對(duì)光學(xué)元件裝夾的研究以減少裝夾對(duì)元件面形的影響等都具有創(chuàng)新性。高精度直線導(dǎo)軌是單色器中的波長(zhǎng)掃描機(jī)構(gòu)的關(guān)鍵部件,它推動(dòng)正弦桿轉(zhuǎn)動(dòng),帶動(dòng)光學(xué)元件轉(zhuǎn)動(dòng)從而實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)掃描。為了實(shí)現(xiàn)表面物理光束線的光譜分辨率,自行研制了行程150mm,分辨率30nm的高精度直線導(dǎo)軌。同時(shí)表面物理光束線還采用了一套角度測(cè)量機(jī)構(gòu),通過光柵尺直接測(cè)量光學(xué)元件的轉(zhuǎn)動(dòng)角度,該角度測(cè)量機(jī)構(gòu)的分辨率可達(dá)0.05"。通過高精度直線導(dǎo)軌和轉(zhuǎn)角測(cè)量機(jī)構(gòu)配合,精確標(biāo)定光學(xué)元件的轉(zhuǎn)角以及對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)。光學(xué)元件的測(cè)試對(duì)象主要包括光學(xué)元件的面形誤差以及光柵的刻線精度。利用長(zhǎng)程面形干涉儀對(duì)表面物理光束線單色器中的光學(xué)元件的面形誤差進(jìn)行測(cè)量,結(jié)果顯示光學(xué)元件的面形精度滿足要求。利用實(shí)驗(yàn)室自建的二維線密度系統(tǒng)對(duì)平面光柵的刻線精度進(jìn)行檢測(cè),4001/mm光柵的線密度精度為3-7×104,12001/mm光柵的刻線精度為1-3×10-5。在表面物理光束線中,狹縫的開口寬度比較小,最小值達(dá)131am,同時(shí)真空環(huán)境和大氣環(huán)境下狹縫的開口大小會(huì)發(fā)生改變,因此需要對(duì)狹縫寬度有一個(gè)較為精確的測(cè)量。搭建了一套狹縫寬度在線系統(tǒng)對(duì)狹縫寬度進(jìn)行測(cè)量,該測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量精度在±5μm以內(nèi)。作為光束線的核心部件,單色器的部件離線調(diào)試和光譜分辨率直接相關(guān)。單色器的安裝調(diào)試包括離軸轉(zhuǎn)動(dòng)參數(shù)的測(cè)試以及雙軸平行性的測(cè)試、安裝準(zhǔn)直技術(shù)。離軸轉(zhuǎn)動(dòng)參數(shù)最終測(cè)得和理論值有所差別,但是偏離光柵中心量在0.07mm以內(nèi),對(duì)能量的影響在10-4eV以內(nèi),而雙軸平行性誤差在±5"以內(nèi),這些誤差為實(shí)現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)的光譜分辨率奠定了基礎(chǔ)。
杜學(xué)維[9]（2013）在《凹面變線距光柵的二維線密度分布測(cè)試及軟X射線平場(chǎng)光譜儀的研制》文中提出光柵作為重要的分光元件,在光譜技術(shù)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。近年,隨著激光、全息等技術(shù)的發(fā)展,使得光柵制作工藝水平得到很大的進(jìn)步,一些高級(jí)光柵被制作出來,并得到廣泛使用。凹而變線距光柵是像差矯正光柵中的一種,其不僅具有凹面光柵分光、聚焦的特性,同時(shí)又能通過改變光柵表而不同位置的刻線密度使得不同波長(zhǎng)的光成像在一個(gè)平面附近,有利于采用CCD等平面探測(cè)器接收光譜,實(shí)現(xiàn)快速全波段光譜分析。隨著陣列探測(cè)器技術(shù)的快速發(fā)展和日益成熟,凹面變線距光柵的應(yīng)用領(lǐng)域迅速拓展并逐漸顯示出其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。本文研究了凹面變線距光柵的以下三部分內(nèi)容：凹面光柵二維刻線密度分布測(cè)試系統(tǒng)、平場(chǎng)凹面變線距光柵光學(xué)系統(tǒng)的高精度波長(zhǎng)標(biāo)定方法以及凹面變線距光柵在平場(chǎng)光譜儀器中的應(yīng)用。首先,光柵的刻線密度參數(shù)是影響光柵分光和成像性能的最重要物理參數(shù),發(fā)展光柵刻線密度的高精度測(cè)試技術(shù)具有重要的意義。一方面,光柵作為產(chǎn)品或商品,用戶需要檢驗(yàn)其指標(biāo)是否滿足設(shè)計(jì)要求；另一方面,通過對(duì)光柵的檢測(cè),可以發(fā)現(xiàn)光柵制作工藝過程中存在的問題,有助于提高光柵的加工制作工藝水平；第三,對(duì)于一塊現(xiàn)成的光柵,獲得精確的光柵刻線密度參數(shù),對(duì)設(shè)計(jì)光柵光學(xué)系統(tǒng)、分析光學(xué)系統(tǒng)像差以及根據(jù)現(xiàn)有光柵參數(shù)進(jìn)行光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化等多方面具有重要的作用。此外,光柵的刻線密度精度還會(huì)直接影響光譜儀的波長(zhǎng)標(biāo)定精度。因此對(duì)光柵刻線密度進(jìn)行高精度測(cè)試,具有重要的實(shí)際意義。對(duì)于凹面變線距光柵,其表面不同位置的刻線密度并不相等,因此對(duì)光柵中心單點(diǎn)的線密度測(cè)量或一維線密度測(cè)量,已無法滿足測(cè)量需求。在論文第3章中,建立了光柵的二維刻線密度測(cè)試系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)對(duì)光柵表面任意一點(diǎn)的線密度進(jìn)行高精度測(cè)量。采用基于光柵衍射方程的衍射測(cè)量法作為本文線密度測(cè)試方法,并以Littrow光路,以獲得最小的系統(tǒng)誤差。首次實(shí)現(xiàn)了對(duì)光柵的二維刻線密度分布的測(cè)量裝置,獲得兩塊光柵的線密度測(cè)試數(shù)據(jù)。并首次在光柵線密度衍射法測(cè)試系統(tǒng)中,發(fā)現(xiàn)全息光柵的彎曲刻線條紋,可以利用此測(cè)試系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)對(duì)光柵刻線彎曲程度進(jìn)行測(cè)試。定義光柵線密度測(cè)試誤差△N與實(shí)際線密度N之問的比值為測(cè)量精度,最終測(cè)試系統(tǒng)的絕對(duì)測(cè)量精度可達(dá)3.4×10-5。其次,一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)在投入使用之前,必須經(jīng)過波長(zhǎng)標(biāo)定這一環(huán)節(jié),以確定探測(cè)器感光面上的任意一點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)。波長(zhǎng)標(biāo)定精度直接影響儀器的正常使用,如在化學(xué)分析、等離子體溫度診斷、天體速度測(cè)量等一些應(yīng)用領(lǐng)域,對(duì)波長(zhǎng)精度有著非常高甚至近乎苛刻的要求。因此,研究高精度波長(zhǎng)標(biāo)定技術(shù),具有重.要的意義。在論文第4章研究波長(zhǎng)標(biāo)定的另一重要目的是為后文軟X射線平場(chǎng)光譜儀的研制預(yù)先提供研究基礎(chǔ)。用一塊工作在可見光波段的凹面變線距光柵,搭建了一臺(tái)小型平場(chǎng)光譜儀,用于專門研究高精度波長(zhǎng)標(biāo)定方法。提出一種基于光柵衍射方程、直接以光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)參數(shù)作為擬合變量、以光學(xué)分光系統(tǒng)的波長(zhǎng)分布函數(shù)作為波長(zhǎng)標(biāo)定模型的參數(shù)擬合波長(zhǎng)標(biāo)定方法。與常用的基于多項(xiàng)式擬合的波長(zhǎng)標(biāo)定方法相比,參數(shù)擬合波長(zhǎng)標(biāo)定具有更高的波長(zhǎng)標(biāo)定精度。其次,由于標(biāo)定模型是以光學(xué)系統(tǒng)物理參數(shù)（如光柵線密度、入射角、入射臂等光學(xué)元件相對(duì)位置參數(shù)）作為擬合變量,通過本文提出的參數(shù)擬合波長(zhǎng)標(biāo)定可以反算出這些參數(shù),進(jìn)而評(píng)價(jià)實(shí)際光學(xué)系統(tǒng)的準(zhǔn)直、安裝水平,對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的調(diào)試具有指導(dǎo)作用。此外,本章提出的參數(shù)擬合波長(zhǎng)標(biāo)定方法,并不局限凹面變線距光柵光學(xué)系統(tǒng),還可以作為采用平面陣列探測(cè)器的光學(xué)系統(tǒng)的一種普適方法,并對(duì)其他光學(xué)系統(tǒng)具有參考價(jià)值。最后,在第5章給出了凹面變線距光柵在光譜儀器中的應(yīng)用實(shí)例,從光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、像差考慮、光譜分辨率分析、儀器設(shè)計(jì)、調(diào)試安裝等多個(gè)方面,系統(tǒng)地介紹了凹面變線距光柵光譜儀器的研制方法和過程。采用凹面變線距光柵作為分光元件,為中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所的先進(jìn)實(shí)驗(yàn)超導(dǎo)托卡馬克裝置研制一套高分辨率寬譜段、緊湊型,具有空間分辨的軟X射線-極紫外波段光譜儀。在托卡馬克運(yùn)行過程中,其內(nèi)部的等離子體中的雜質(zhì)會(huì)引起大量的輻射損失,制約所能獲得的等離子體的品質(zhì),影響托卡馬克高參數(shù)、準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)運(yùn)行。利用光譜儀對(duì)托卡馬克內(nèi)部等離子體的發(fā)射光譜進(jìn)行診斷,是研究托卡馬克等離子體芯部雜質(zhì)輸運(yùn)的重要手段。研制的光譜儀器波長(zhǎng)覆蓋范圍10A-500A,空間覆蓋范圍900mm。分長(zhǎng)、短兩個(gè)波段設(shè)計(jì)。在10A-100A的短波段,光譜分辨率為0.06A@35A；在50A-500A的長(zhǎng)波段,其光譜分辨率為0.15A@200A,光譜分辨率指標(biāo)達(dá)到世界同類裝置水平。日前,該套光譜儀器已成為研究EAST芯部雜質(zhì)輸運(yùn)的常規(guī)診斷儀器,為實(shí)現(xiàn)EAST高參數(shù)穩(wěn)態(tài)運(yùn)行提供重要的物理支持。
王春芝[10]（2013）在《平面非等周期光柵的衍射特性研究》文中指出平面非等周期光柵除了具有人們熟知的色散特性之外,還具有聚焦等衍射特性,在工程技術(shù)和科學(xué)研究領(lǐng)域中具有廣闊的應(yīng)用前景。目前關(guān)于平面非等周期透射光柵的衍射特性還有許多物理關(guān)系尚未弄清,從而制約了它的應(yīng)用。因此,深入研究平面非等周期透射光柵的衍射特性,既有利于探索新衍射現(xiàn)象、認(rèn)識(shí)新規(guī)律,又可以為平面非等周期光柵在很多領(lǐng)域中的應(yīng)用提供參考。論文對(duì)平面一維非等周期透射光柵（VLS光柵）和平面二維弧形非等周期透射光柵的衍射特性進(jìn)行了較深入的研究。首先根據(jù)費(fèi)馬（Fermat）原理建立了描述平面非等周期透射光柵衍射成像理論,得出了聚焦成像公式以及色散相關(guān)公式。其次通過實(shí)驗(yàn)分別研究了一維VLS透射光柵對(duì)平面波和球面波的聚焦和色散特性;實(shí)驗(yàn)結(jié)果與理論分析相吻合。然后設(shè)計(jì)并采用全息法制作了一組平面二維弧形非等周期透射光柵,而且利用實(shí)驗(yàn)研究與理論分析相結(jié)合的方法研究了平面二維弧形非等周期透射光柵對(duì)平面波和球面波的衍射聚焦特性。通過研究平面一維VLS光柵和平面二維弧形非等周期透射光柵的衍射特性,得到了這兩種光柵的衍射聚焦位置隨光柵空間頻率分布、入射光波長(zhǎng)、入射角、入射光類型變化的相關(guān)物理規(guī)律。根據(jù)非等周期透射光柵的衍射特性,本文最后設(shè)計(jì)了由非等周期光柵和等周期光柵組成的雙光柵光譜儀和單色儀,建立了描述雙光柵光譜儀和雙光柵單色儀工作原理的理論;搭建了驗(yàn)證兩儀器的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),通過雙光柵光譜儀實(shí)驗(yàn)光路觀測(cè)到了汞燈發(fā)出的光波中波長(zhǎng)為576.96nm和579.07nm的光波的兩條譜線,通過雙光柵單色儀實(shí)驗(yàn)光路從汞燈發(fā)出的光波中成功地分離出了波長(zhǎng)為579.07nm的光波譜線。
二、變間距光柵刻線密度測(cè)試系統(tǒng)的性能評(píng)價(jià)（論文開題報(bào)告）
（1）論文研究背景及目的
此處內(nèi)容要求：
首先簡(jiǎn)單簡(jiǎn)介論文所研究問題的基本概念和背景，再而簡(jiǎn)單明了地指出論文所要研究解決的具體問題，并提出你的論文準(zhǔn)備的觀點(diǎn)或解決方法。
寫法范例：
本文主要提出一款精簡(jiǎn)64位RISC處理器存儲(chǔ)管理單元結(jié)構(gòu)并詳細(xì)分析其設(shè)計(jì)過程。在該MMU結(jié)構(gòu)中,TLB采用叁個(gè)分離的TLB,TLB采用基于內(nèi)容查找的相聯(lián)存儲(chǔ)器并行查找,支持粗粒度為64KB和細(xì)粒度為4KB兩種頁面大小,采用多級(jí)分層頁表結(jié)構(gòu)映射地址空間,并詳細(xì)論述了四級(jí)頁表轉(zhuǎn)換過程,TLB結(jié)構(gòu)組織等。該MMU結(jié)構(gòu)將作為該處理器存儲(chǔ)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的一個(gè)重要組成部分。
（2）本文研究方法
調(diào)查法：該方法是有目的、有系統(tǒng)的搜集有關(guān)研究對(duì)象的具體信息。
觀察法：用自己的感官和輔助工具直接觀察研究對(duì)象從而得到有關(guān)信息。
實(shí)驗(yàn)法：通過主支變革、控制研究對(duì)象來發(fā)現(xiàn)與確認(rèn)事物間的因果關(guān)系。
文獻(xiàn)研究法：通過調(diào)查文獻(xiàn)來獲得資料，從而全面的、正確的了解掌握研究方法。
實(shí)證研究法：依據(jù)現(xiàn)有的科學(xué)理論和實(shí)踐的需要提出設(shè)計(jì)。
定性分析法：對(duì)研究對(duì)象進(jìn)行“質(zhì)”的方面的研究，這個(gè)方法需要計(jì)算的數(shù)據(jù)較少。
定量分析法：通過具體的數(shù)字，使人們對(duì)研究對(duì)象的認(rèn)識(shí)進(jìn)一步精確化。
跨學(xué)科研究法：運(yùn)用多學(xué)科的理論、方法和成果從整體上對(duì)某一課題進(jìn)行研究。
功能分析法：這是社會(huì)科學(xué)用來分析社會(huì)現(xiàn)象的一種方法，從某一功能出發(fā)研究多個(gè)方面的影響。
模擬法：通過創(chuàng)設(shè)一個(gè)與原型相似的模型來間接研究原型某種特性的一種形容方法。
三、變間距光柵刻線密度測(cè)試系統(tǒng)的性能評(píng)價(jià)（論文提綱范文）
（1）消像差凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)建模與一體化設(shè)計(jì)（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 緒論 |
| 1.1 課題的研究背景及意義 |
| 1.2 凸面光柵成像光譜儀的研究現(xiàn)狀 |
| 1.2.1 凸面光柵成像光譜儀的應(yīng)用 |
| 1.2.2 凸面光柵成像光譜儀的研究進(jìn)展 |
| 1.3 論文的主要研究?jī)?nèi)容與結(jié)構(gòu)安排 |
| 1.3.1 論文的主要研究?jī)?nèi)容 |
| 1.3.2 論文的結(jié)構(gòu)安排 |
| 第2章 成像光譜系統(tǒng)的設(shè)計(jì)理論基礎(chǔ) |
| 2.1 引言 |
| 2.2 成像光譜儀的原理 |
| 2.2.1 成像光譜儀的工作原理 |
| 2.2.2 成像光譜儀的分類 |
| 2.2.3 成像光譜儀的基本性能參數(shù) |
| 2.3 同心成像光學(xué)系統(tǒng)的理論基礎(chǔ) |
| 2.4 同心成像光譜系統(tǒng)的像差特性 |
| 2.5 本章小結(jié) |
| 第3章 凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)建模及像差分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 衍射光柵設(shè)計(jì)的基本原理 |
| 3.2.1 費(fèi)馬原理及其應(yīng)用符號(hào)法則 |
| 3.2.2 光線追跡 |
| 3.2.3 衍射光柵的光程函數(shù) |
| 3.3 凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)的像差理論 |
| 3.3.1 光線追跡 |
| 3.3.2 光學(xué)系統(tǒng)的像差分析 |
| 3.3.3 理論模型的性能評(píng)估 |
| 3.4 本章小結(jié) |
| 第4章 基于幾何像差理論模型的優(yōu)化設(shè)計(jì) |
| 4.1 引言 |
| 4.2 凸面光柵成像光譜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)參數(shù)的確定 |
| 4.2.1 凸面光柵的參數(shù)計(jì)算 |
| 4.2.2 狹縫參數(shù)的選擇 |
| 4.2.3 光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)參數(shù)的確定 |
| 4.3 基于變間距凸面光柵的成像光譜系統(tǒng)的消像散設(shè)計(jì) |
| 4.3.1 變間距凸面光柵的設(shè)計(jì)背景 |
| 4.3.2 聚焦條件分析 |
| 4.3.3 成像光譜系統(tǒng)的設(shè)計(jì)結(jié)果 |
| 4.3.4 成像光譜系統(tǒng)評(píng)價(jià) |
| 4.4 前置望遠(yuǎn)系統(tǒng)的設(shè)計(jì) |
| 4.4.1 前置望遠(yuǎn)系統(tǒng)參數(shù)的確定 |
| 4.4.2 前置望遠(yuǎn)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)選型與優(yōu)化設(shè)計(jì) |
| 4.5 消像差凸面光柵成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.6 本章小結(jié) |
| 第5章 消像差凸面全息光柵的曝光系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 5.1 引言 |
| 5.2 消像差凸面全息光柵的曝光光路 |
| 5.3 消像差凸面全息光柵曝光系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì) |
| 5.3.1 設(shè)計(jì)思路 |
| 5.3.2 優(yōu)化函數(shù) |
| 5.3.3 遺傳算法及應(yīng)用 |
| 5.3.4 優(yōu)化設(shè)計(jì)實(shí)例 |
| 5.4 本章小結(jié) |
| 第6章 總結(jié)與展望 |
| 6.1 論文工作總結(jié) |
| 6.2 創(chuàng)新之處 |
| 6.3 工作展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 作者簡(jiǎn)歷及攻讀學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與研究成果 |
（2）用于檢測(cè)光柵線密度的長(zhǎng)程面形儀系統(tǒng)（論文提綱范文）
| 1 引 言 |
| 2 測(cè)量原理 |
| 2.1 LTP測(cè)量原理 |
| 2.2 LTP測(cè)量光柵的原理 |
| 3 測(cè)量系統(tǒng)的搭建 |
| 4 實(shí)驗(yàn)測(cè)量 |
| 4.1 LTP測(cè)量光柵系統(tǒng)的標(biāo)定 |
| 4.2 LTP檢測(cè)760 line/mm與2400 line/mm光柵 |
| 4.3 干涉儀檢測(cè)760 line/mm光柵 |
| 5 結(jié) 論 |
（3）合肥光源平面光柵單色器設(shè)計(jì)及調(diào)試（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 緒論 |
| 1.1 同步輻射概述 |
| 1.1.1 同步輻射的發(fā)展與現(xiàn)狀 |
| 1.1.2 步輻射光源的特點(diǎn) |
| 1.1.3 合肥光源重大維修改造項(xiàng)目 |
| 1.2 同步輻射光束線 |
| 1.2.1 同步輻射光束線概述 |
| 1.2.2 同步輻射光束線單色器簡(jiǎn)介 |
| 1.3 本文工作和內(nèi)容安排 |
| 第2章 衍射光柵基本理論 |
| 2.1 衍射光柵像差理論 |
| 2.2 光柵光學(xué)系統(tǒng)分辨率 |
| 2.3 光學(xué)追跡 |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 第3章 準(zhǔn)直型SX-700與自聚焦平面變間距單色器比較 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 準(zhǔn)直型SX-700單色器帶入催化與表面科學(xué)光束線計(jì)算 |
| 3.2.1 準(zhǔn)直型SX-700平面光柵單色器光學(xué)設(shè)計(jì) |
| 3.2.2 單色器分辨率 |
| 3.2.3 光學(xué)系統(tǒng)效率 |
| 3.3 結(jié)果分析 |
| 3.4 本章小結(jié) |
| 第4章 軟X射線成像光束線設(shè)計(jì) |
| 4.1 引言 |
| 4.1.1 科學(xué)意義 |
| 4.1.2 建設(shè)目標(biāo)及光束線技術(shù)指標(biāo) |
| 4.2 光源 |
| 4.2.1 光源及扭擺器參數(shù) |
| 4.2.2 光源性能 |
| 4.3 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.3.1 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 4.3.2 光學(xué)系統(tǒng)分辨率 |
| 4.3.3 光學(xué)系統(tǒng)效率 |
| 4.3.4 出射狹縫處光的發(fā)散角 |
| 4.3.5 單色器離軸轉(zhuǎn)動(dòng)參數(shù) |
| 4.4 光學(xué)元件及主要部件 |
| 4.5 本章小結(jié) |
| 第5章 燃燒光束線設(shè)計(jì) |
| 5.1 引言 |
| 5.1.1 科學(xué)意義 |
| 5.1.2 建設(shè)目標(biāo)及光束線技術(shù)指標(biāo) |
| 5.2 光源 |
| 5.2.1 光源及波蕩器參數(shù) |
| 5.2.2 光源性能 |
| 5.3 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 5.3.1 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 5.3.2 光學(xué)系統(tǒng)分辨率 |
| 5.3.3 光學(xué)系統(tǒng)效率 |
| 5.4 光學(xué)元件及主要部件 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 第6章 光束線安裝準(zhǔn)直與性能測(cè)試 |
| 6.1 光束線安裝準(zhǔn)直 |
| 6.1.1 光束線真空機(jī)械部件的預(yù)安裝 |
| 6.1.2 關(guān)鍵部件及其離線測(cè)試 |
| 6.1.3 光束線的在線準(zhǔn)直 |
| 6.1.4 平面光柵單色器的準(zhǔn)直 |
| 6.2 單色器能量標(biāo)定 |
| 6.2.1 單色器能量標(biāo)定使用設(shè)備介紹 |
| 6.2.2 催化與表面科學(xué)光束線單色器能量標(biāo)定 |
| 6.3 波蕩器磁極間隙標(biāo)定 |
| 6.4 光束線性能測(cè)試 |
| 6.4.1 燃燒光束線性能測(cè)試 |
| 6.4.2 催化與表面科學(xué)光束線性能測(cè)試 |
| 6.5 本章小結(jié) |
| 第7章 總結(jié)與展望 |
| 7.1 本文主要工作及創(chuàng)新點(diǎn) |
| 7.2 不足與展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 在讀期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與取得的其他研究成果 |
（4）平面非等周期雙光柵系統(tǒng)成像研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 課題的研究背景及其意義 |
| 1.2 論文的研究?jī)?nèi)容及安排 |
| 1.2.1 本文的研究目標(biāo)和意義 |
| 1.2.2 本論文的內(nèi)容安排 |
| 第二章 非等周期光柵的理論及其成像概述 |
| 2.1 非等周期光柵的理論研究概述 |
| 2.1.1 非等周期光柵的的物象關(guān)系式 |
| 2.1.2 非等周期光柵的放大率公式 |
| 2.2 非等周期光柵的成像規(guī)律 |
| 2.3 本章小結(jié) |
| 第三章 平面非等周期光柵的設(shè)計(jì)與制作 |
| 3.1 平面非等周期光柵的制作 |
| 3.1.1 平面非等周期光柵的制作理論 |
| 3.1.2 平面非等周期光柵的實(shí)驗(yàn)拍攝 |
| 3.2 平面非等周期光柵的參數(shù) |
| 3.3 本章小結(jié) |
| 第四章 平面非等周期光柵像散、放大率的研究 |
| 4.1 平面二維弧線型非等周期光柵衍射像像散、放大率的實(shí)驗(yàn)測(cè)量方法 |
| 4.2 不同參數(shù)平面非等周期光柵像散的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 4.2.1 參數(shù)B對(duì)光柵像散的影響 |
| 4.2.2 參數(shù)B與B'對(duì)光柵像散的影響 |
| 4.2.3 參數(shù)C對(duì)光柵像散的影響 |
| 4.3 非等周期光柵的像散分析 |
| 4.4 不同系列平面非等周期光柵放大率的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 4.4.1 參數(shù)B與B'對(duì)光柵放大率的影響 |
| 4.4.2 物距、入射波長(zhǎng)對(duì)光柵放大率的影響 |
| 4.5 本章小結(jié) |
| 第五章 平面非等周期雙光柵系統(tǒng)的成像分析 |
| 5.1 平面等周期與非等周期雙光柵系統(tǒng)的匯合成像研究 |
| 5.1.1 平面等周期與非等周期雙光柵系統(tǒng)的實(shí)像匯合條件研究 |
| 5.1.2 平面等周期與非等周期雙光柵系統(tǒng)的實(shí)像物象關(guān)系、放大率研究 |
| 5.1.3 平面等周期與非等周期雙光柵系統(tǒng)的虛像匯合條件研究 |
| 5.1.4 平面等周期與非等周期雙光柵系統(tǒng)的虛像物象關(guān)系研究 |
| 5.2 平面非等周期與等周期雙光柵系統(tǒng)的匯合成像研究 |
| 5.2.1 平面非等周期與等周期雙光柵系統(tǒng)的實(shí)像匯合條件研究 |
| 5.2.2 平面非等周期與等周期雙光柵系統(tǒng)的實(shí)像物象關(guān)系研究 |
| 5.2.3 平面非等周期與等周期雙光柵系統(tǒng)的虛像匯合條件研究 |
| 5.2.4 平面非等周期與等周期雙光柵系統(tǒng)的虛像物象關(guān)系件研究 |
| 5.3 平面非等周期雙光柵系統(tǒng)的應(yīng)用設(shè)計(jì) |
| 5.3.1 設(shè)計(jì)構(gòu)思 |
| 5.3.2 參數(shù)設(shè)計(jì) |
| 5.4 本章小結(jié) |
| 第六章 總結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 附錄1 |
| 附錄2 |
| 致謝 |
| 攻讀碩士學(xué)位期間的研究成果 |
（5）軟X射線并聯(lián)平場(chǎng)光柵的設(shè)計(jì)和制作（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 目錄 |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 軟X射線平場(chǎng)光柵 |
| 1.2.1 工作原理 |
| 1.2.2 特點(diǎn) |
| 1.2.3 制作方法簡(jiǎn)介 |
| 1.2.4 主要應(yīng)用 |
| 1.3 國(guó)內(nèi)外的研究現(xiàn)狀 |
| 1.3.1 國(guó)外的研究現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì) |
| 1.3.2 國(guó)內(nèi)的研究現(xiàn)狀 |
| 1.4 軟X射線并聯(lián)平場(chǎng)光柵 |
| 1.4.1 軟X射線平場(chǎng)光柵的局限 |
| 1.4.2 軟X射線并聯(lián)平場(chǎng)光柵的概念 |
| 1.5 選題意義和內(nèi)容安排 |
| 第二章 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的參數(shù)優(yōu)化 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 并聯(lián)平場(chǎng)光柵譜儀結(jié)構(gòu)的確定 |
| 2.3 并聯(lián)平場(chǎng)光柵線密度參數(shù)的優(yōu)化 |
| 2.3.1 平場(chǎng)光柵的成像特性 |
| 2.3.2 平場(chǎng)光柵線密度參數(shù)的優(yōu)化算法——遺傳算法 |
| 2.3.3 并聯(lián)平場(chǎng)光柵線密度參數(shù)的優(yōu)化 |
| 2.3.4 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的線密度 |
| 2.4 并聯(lián)平場(chǎng)光柵槽型參數(shù)的優(yōu)化 |
| 2.4.1 與文獻(xiàn)中平場(chǎng)光柵衍射效率計(jì)算結(jié)果對(duì)比 |
| 2.4.2 并聯(lián)平場(chǎng)光柵槽型參數(shù)的優(yōu)化 |
| 2.4.3 并聯(lián)平場(chǎng)光柵衍射效率的計(jì)算 |
| 2.4.4 并聯(lián)平場(chǎng)光柵與標(biāo)準(zhǔn)平場(chǎng)光柵衍射效率的對(duì)比 |
| 2.5 并聯(lián)平場(chǎng)光柵參數(shù)的優(yōu)化結(jié)果 |
| 2.6 本章小結(jié) |
| 第三章 并聯(lián)平場(chǎng)光柵記錄光路的優(yōu)化 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的記錄光路理論 |
| 3.2.1 凹面光柵的全息記錄光路 |
| 3.2.2 平場(chǎng)光柵的全息記錄光路理論 |
| 3.3 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的記錄光路參數(shù)的優(yōu)化 |
| 3.3.1 需要優(yōu)化的記錄光路參數(shù) |
| 3.3.2 目標(biāo)函數(shù) |
| 3.3.3 記錄光路的優(yōu)化結(jié)果 |
| 3.3.4 記錄光路優(yōu)化結(jié)果的評(píng)價(jià) |
| 3.3.5 各參數(shù)誤差對(duì)線密度的影響 |
| 3.4 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的理論分辨能力 |
| 3.4.1 光線追跡理論 |
| 3.4.2 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的理論分辨能力 |
| 3.5 本章小結(jié) |
| 第四章 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的制作 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 并聯(lián)平場(chǎng)光柵的制作工藝 |
| 4.3 并聯(lián)平場(chǎng)光柵記錄光路的搭建 |
| 4.3.1 等光程補(bǔ)償 |
| 4.3.2 記錄光路中主要部件介紹 |
| 4.3.3 記錄光路搭建過程 |
| 4.3.4 記錄光路搭建過程中的誤差分析 |
| 4.4 并聯(lián)平場(chǎng)光柵中兩組子光柵的對(duì)準(zhǔn) |
| 4.4.1 理論對(duì)準(zhǔn)誤差 |
| 4.4.2 兩組子光柵的對(duì)準(zhǔn)方法 |
| 4.4.3 兩組子光柵的對(duì)準(zhǔn)誤差的分析 |
| 4.5 并聯(lián)平場(chǎng)光柵制作中遇到的問題及關(guān)鍵工藝參數(shù)的確定 |
| 4.5.1 并聯(lián)平場(chǎng)光柵制作中遇到的問題及解決方法 |
| 4.5.2 并聯(lián)平場(chǎng)光柵制作中關(guān)鍵工藝參數(shù)的確定 |
| 4.6 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 4.7 本章小結(jié) |
| 第五章 平場(chǎng)光柵的線密度測(cè)量 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 常用的線密度測(cè)量方法 |
| 5.2.1 原子力顯微鏡測(cè)量法 |
| 5.2.2 激光干涉儀測(cè)量法 |
| 5.2.3 莫爾條紋測(cè)量法 |
| 5.2.4 LTP測(cè)量法 |
| 5.2.5 衍射自準(zhǔn)直測(cè)量法 |
| 5.2.6 雙波長(zhǎng)衍射測(cè)量法 |
| 5.3 衍射自準(zhǔn)直方法測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量結(jié)果 |
| 5.3.1 主要部件介紹 |
| 5.3.2 實(shí)際測(cè)量過程 |
| 5.3.3 測(cè)量誤差分析 |
| 5.3.4 測(cè)量結(jié)果 |
| 5.4 雙波長(zhǎng)衍射法測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量結(jié)果 |
| 5.4.1 主要部件介紹 |
| 5.4.2 實(shí)際測(cè)量過程 |
| 5.4.3 測(cè)量誤差分析 |
| 5.4.4 測(cè)量結(jié)果 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 第六章 總結(jié)與展望 |
| 6.1 論文的工作總結(jié) |
| 6.2 論文的主要?jiǎng)?chuàng)新點(diǎn) |
| 6.3 工作展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 作者攻讀博士學(xué)位期間發(fā)表的論文與其他成果 |
| 致謝 |
（6）軟X射線全息平焦場(chǎng)光柵的研制（論文提綱范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 目錄 |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 軟x射線平焦場(chǎng)光柵譜儀 |
| 1.2.1 軟x射線平焦場(chǎng)光柵譜儀的國(guó)內(nèi)外應(yīng)用現(xiàn)狀 |
| 1.2.2 平場(chǎng)光譜儀的像散矯正 |
| 1.2.3 平場(chǎng)光譜儀的標(biāo)定 |
| 1.2.4 平場(chǎng)光譜儀的超分辨率重構(gòu)技術(shù) |
| 1.3 軟x射線平焦場(chǎng)光柵的發(fā)展現(xiàn)狀 |
| 1.4 選題意義與內(nèi)容安排 |
| 第二章 軟x射線平焦場(chǎng)光柵的優(yōu)化設(shè)計(jì) |
| 2.1 引言 |
| 2.2 軟x射線平焦場(chǎng)光柵的優(yōu)化設(shè)計(jì)理論 |
| 2.2.1 凹面消像差光柵的像差理論 |
| 2.2.2 曝光光路設(shè)計(jì) |
| 2.2.3 光線追跡 |
| 2.3 應(yīng)用于0.8-6 nm的軟×射線平焦場(chǎng)光柵設(shè)計(jì) |
| 2.3.1 線密度優(yōu)化 |
| 2.3.2 制作光路優(yōu)化 |
| 2.3.3 光柵槽型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 第三章 軟x射線平場(chǎng)光譜儀的光譜分辨率研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 光譜分辨率的表征方式 |
| 3.3 分區(qū)光柵 |
| 3.3.1 軟x射線平焦場(chǎng)光柵成像特性 |
| 3.3.2 考慮光柵衍射效率的光線追跡模型 |
| 3.3.3 分區(qū)光柵的設(shè)計(jì) |
| 3.4 軟x射線平焦場(chǎng)光柵的條紋彎曲及其光譜成像彎曲 |
| 3.4.1 軟x射線平焦場(chǎng)光柵的條紋彎曲現(xiàn)象 |
| 3.4.2 條紋彎曲對(duì)光譜分辨率的影響 |
| 3.4.3 光柵條紋彎曲的調(diào)整及其對(duì)光譜分辨率的改善 |
| 3.5 利用柱面反射鏡制作的分區(qū)光柵 |
| 3.6 本章小結(jié) |
| 第四章 全息平焦場(chǎng)光柵的制作 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 曝光光路搭建誤差分析 |
| 4.3 全息平焦場(chǎng)光柵的制作工藝 |
| 4.3.1 光柵條紋對(duì)比度調(diào)整 |
| 4.3.2 曝光中的調(diào)制 |
| 4.3.3 光刻膠掩模占寬比的調(diào)整 |
| 4.3.4 全息平焦場(chǎng)光柵的刻蝕 |
| 4.4 變間距光柵的線密度測(cè)量 |
| 4.4.1 基于位相片的變間距光柵線密度測(cè)量系統(tǒng) |
| 4.4.2 線密度測(cè)量系統(tǒng)誤差分析 |
| 4.4.3 軟x射線全息平焦場(chǎng)光柵的線密度分布測(cè)量 |
| 4.5 采用的柱面反射鏡的記錄光路 |
| 4.6 本章小結(jié) |
| 第五章 近場(chǎng)全息曝光制作全息平焦場(chǎng)的相關(guān)問題研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 近場(chǎng)全息制作變間距光柵 |
| 5.2.1 近場(chǎng)全息中的線密度轉(zhuǎn)移 |
| 5.2.2 近場(chǎng)全息中線密度轉(zhuǎn)移誤差的修正 |
| 5.2.3 用于近場(chǎng)全息的變間距掩模版設(shè)計(jì) |
| 5.3 電子束光刻制作光柵掩模的相關(guān)分析 |
| 5.4 本章小結(jié) |
| 第六章 總結(jié)與展望 |
| 6.1 論文的工作總結(jié) |
| 6.2 論文的主要?jiǎng)?chuàng)新點(diǎn) |
| 6.3 展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 在讀期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與取得的其他研究成果 |
（7）平面非等周期光柵的成像特性研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 非等周期光柵發(fā)展及研究 |
| 1.2 本論文的研究意義與內(nèi)容安排 |
| 1.2.1 本論文的研究目標(biāo)和意義 |
| 1.2.2 本論文的內(nèi)容安排 |
| 第二章 非等周期光柵成像的物像關(guān)系研究 |
| 2.1 一維非等周期光柵成像的物像關(guān)系的研究 |
| 2.1.1 一維非等周期光柵成像的物像關(guān)系式的推導(dǎo) |
| 2.1.2 一維非等周期光柵的設(shè)計(jì) |
| 2.1.3 一維非等周期光柵的物像關(guān)系的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 2.2 二維圓弧形非等周期光柵成像的物像關(guān)系的研究 |
| 2.2.1 二維圓弧形非等周期光柵成像的物像關(guān)系的公式推導(dǎo) |
| 2.2.2 二維圓弧形非等周期光柵成像的研究對(duì)像及實(shí)驗(yàn)方案 |
| 2.2.3 物光波經(jīng)二維非等周期光柵所成的衍射像物像關(guān)系的實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 2.3 本章小結(jié) |
| 第三章 非等周期光柵成像放大率的研究 |
| 3.1 一維非等周期光柵成像放大率的研究 |
| 3.1.1 一維非等周期光柵的衍射像的放大率的公式推導(dǎo) |
| 3.1.2 一維圓弧形非等周期光柵的衍射像的放大率的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 3.2 二維圓弧形非等周期光柵的衍射像放大率的分析 |
| 3.2.1 二維圓弧形非等周期光柵的衍射像放大率的公式推導(dǎo) |
| 3.2.2 二維圓弧形非等周期光柵衍射像放大率的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 3.3 本章小結(jié) |
| 第四章 非等周期光柵成像質(zhì)量的研究 |
| 4.1 一維非等周期光柵衍射像的像差理論分析 |
| 4.1.1 一維非等周期光柵的慧差的分析 |
| 4.1.2 一維非等周期光柵的球差的分析 |
| 4.1.3 一維非等周期光柵的像散的分析 |
| 4.2 二維圓弧形非等周期光柵的像散研究 |
| 4.2.1 二維圓弧形非等周期光柵的像散理論分析 |
| 4.2.2 二維圓弧形非等周期光柵所成的一級(jí)衍射像像散的實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 4.3 本章總結(jié) |
| 第五章 總結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 攻讀碩士學(xué)位期間的研究成果 |
（8）變線距光柵單色器設(shè)計(jì)及關(guān)鍵技術(shù)（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 目錄 |
| 第1章 . 緒論 |
| 1.1. 同步輻射光源 |
| 1.1.1 同步輻射光源的發(fā)展 |
| 1.1.2 同步輻射光源主要特性 |
| 1.2. 同步輻射光束線 |
| 1.2.1 光束線簡(jiǎn)介 |
| 1.2.3 光束線設(shè)計(jì)基本思路 |
| 1.3. 研究工作和內(nèi)容安排 |
| 第2章 . 衍射光柵像差理論 |
| 2.1 平面變間距光柵像差理論 |
| 2.2 光學(xué)系統(tǒng)分辨率 |
| 第3章 . 同步輻射表面物理光束線設(shè)計(jì) |
| 3.1 引言 |
| 3.2 表面物理光束線技術(shù)指標(biāo)及光源性能 |
| 3.2.1 科學(xué)目標(biāo)及技術(shù)參數(shù) |
| 3.2.2 光源參數(shù)及插入件參數(shù) |
| 3.2.3 光源性能 |
| 3.3 光束線光學(xué)設(shè)計(jì) |
| 3.3.1 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 3.3.2 光學(xué)系統(tǒng)分辨率 |
| 3.3.3 光學(xué)系統(tǒng)效率 |
| 3.3.4 離軸轉(zhuǎn)動(dòng)參數(shù) |
| 3.3.5 光學(xué)元件 |
| 3.4 光束線熱載分析 |
| 3.4.1 波蕩器輻射功率及分布 |
| 3.4.2 鏡面熱載以及水冷 |
| 3.5 本章小結(jié) |
| 第4章 . 大連相干光源光束線設(shè)計(jì) |
| 4.1 引言 |
| 4.2 光源性能及光束線技術(shù)要求 |
| 4.3 光束線設(shè)計(jì) |
| 4.3.1 光束線光學(xué)設(shè)計(jì) |
| 4.3.2 系統(tǒng)效率 |
| 4.4 光譜診斷系統(tǒng) |
| 4.4.1 光源的脈沖結(jié)構(gòu)與傅里葉變化極限 |
| 4.4.2 診斷光譜儀 |
| 4.5 本章小結(jié) |
| 第5章 . 高分辨平面變間距光柵單色器關(guān)鍵技術(shù) |
| 5.1 波長(zhǎng)掃描機(jī)構(gòu) |
| 5.1.1 直線位移機(jī)構(gòu) |
| 5.1.2 轉(zhuǎn)角測(cè)量機(jī)構(gòu) |
| 5.2 光學(xué)元件檢測(cè) |
| 5.2.1 光學(xué)元件面形檢測(cè) |
| 5.2.2 光柵刻線密度測(cè)試 |
| 5.3 狹縫寬度檢測(cè) |
| 5.4 單色器離線調(diào)試 |
| 5.4.1 單色器機(jī)構(gòu)誤差分析及精度要求 |
| 5.4.2 調(diào)試步驟及結(jié)果 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 第6章 . 總結(jié)與展望 |
| 6.1 本文主要工作 |
| 6.2 不足和展望 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 在讀期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與取得的其他研究成果 |
（9）凹面變線距光柵的二維線密度分布測(cè)試及軟X射線平場(chǎng)光譜儀的研制（論文提綱范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 緒論 |
| 1.1 光譜儀器與同步輻射單色器概述 |
| 1.2 衍射光柵概述 |
| 1.2.1 衍射光柵的發(fā)展歷程 |
| 1.2.2 衍射光柵類型及典刑光學(xué)系統(tǒng) |
| 1.3 衍射光柵的檢測(cè)技術(shù)概述 |
| 1.3.1 光柵波面像差檢測(cè) |
| 1.3.2 光柵槽形的檢測(cè) |
| 1.3.3 光柵線密度檢測(cè) |
| 1.3.4 光柵光譜分辨本領(lǐng)檢測(cè) |
| 1.3.5 光柵衍射效率檢測(cè) |
| 1.3.6 光柵雜散光檢測(cè) |
| 1.4 衍射光柵的應(yīng)用 |
| 1.4.1 光柵光潛儀 |
| 1.4.2 同步輻射光柵單色器 |
| 1.5 本文研究工作 |
| 參考文獻(xiàn) |
| 第2章 凹面變線距光柵像差理論 |
| 2.1 凹面光柵像差理論介紹 |
| 2.2 凹面變線距光柵像差理論介紹 |
| 2.3 光柵光學(xué)系統(tǒng)性能評(píng)價(jià)及模擬 |
| 2.3.1 光譜分辨率分析 |
| 2.3.2 光學(xué)追跡 |
| 2.4 本章小結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 第3章 凹面變線距光柵的二維刻線密度測(cè)試 |
| 3.1 光柵二維線密度測(cè)試的意義 |
| 3.2 基本測(cè)試方法簡(jiǎn)介 |
| 3.2.1 干涉測(cè)量法 |
| 3.2.2 Moire條紋量法 |
| 3.2.3 LTP測(cè)量法 |
| 3.2.4 衍射法 |
| 3.3 二維線密度測(cè)試系統(tǒng)搭建 |
| 3.3.1 測(cè)試系統(tǒng)部件介紹 |
| 3.3.2 測(cè)量系統(tǒng)的準(zhǔn)直與安裝 |
| 3.3.3 精度分析 |
| 3.4 實(shí)驗(yàn)與數(shù)據(jù)處理 |
| 3.4.1 球面光柵一維線密度測(cè)試 |
| 3.4.2 凹而變線距光柵二維線密度測(cè)試 |
| 3.5 本章小結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 第4章 凹面變線距光柵光譜儀高精度波長(zhǎng)標(biāo)定方法研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 標(biāo)定光源介紹 |
| 4.2.1 空心陰極燈 |
| 4.2.2 潘寧放電光源 |
| 4.2.3 特種光源 |
| 4.3 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)搭建 |
| 4.3.1 光學(xué)系統(tǒng) |
| 4.3.2 探測(cè)器 |
| 4.4 基于光學(xué)參數(shù)擬合的波長(zhǎng)標(biāo)定方法 |
| 4.5 實(shí)驗(yàn)及數(shù)據(jù)處理 |
| 4.5.1 選擇標(biāo)準(zhǔn)譜線 |
| 4.5.2 確定標(biāo)準(zhǔn)譜線中心位置 |
| 4.5.3 波長(zhǎng)標(biāo)定 |
| 4.5.4 光學(xué)系統(tǒng)實(shí)際參數(shù) |
| 4.6 本章小結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 第5章 軟X射線平場(chǎng)光譜儀的研制 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 光學(xué)方案設(shè)計(jì) |
| 5.2.1 總體設(shè)計(jì) |
| 5.2.2 分光系統(tǒng)設(shè)計(jì) |
| 5.2.3 聚焦曲線 |
| 5.2.4 光譜分辨率 |
| 5.2.5 空間分辨 |
| 5.3 儀器設(shè)計(jì) |
| 5.3.1 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) |
| 5.3.2 關(guān)鍵部件 |
| 5.4 離線調(diào)試與實(shí)驗(yàn) |
| 5.4.1 分辨率測(cè)試 |
| 5.4.2 波長(zhǎng)標(biāo)定 |
| 5.5 本章小結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 第6章 總結(jié)與展望 |
| 6.1 本文主要工作及創(chuàng)新點(diǎn) |
| 6.2 不足與展望 |
| 在讀期間參與的研究課題 |
| 致謝 |
| 在讀期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與取得的其他研究成果 |
（10）平面非等周期光柵的衍射特性研究（論文提綱范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 緒論 |
| 1.1 非等周期光柵的衍射特性概述 |
| 1.2 本論文的研究意義與內(nèi)容安排 |
| 1.2.1 本論文的研究目標(biāo)和意義 |
| 1.2.2 本論文的內(nèi)容安排 |
| 第二章 一維非等周期光柵的衍射特性研究 |
| 2.1 一維非等周期透射光柵衍射聚焦的理論模型 |
| 2.1.1 一維非等周期透射光柵衍射的光函數(shù)理論 |
| 2.1.2 非等周期透射光柵的光束聚焦公式 |
| 2.2 一維非等周期透射光柵的聚焦特性的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 2.2.1 一維非等周期光柵對(duì)單色平面波的聚焦特性的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 2.2.2 一維非等周期光柵對(duì)單色球面波的聚焦特性的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 2.3 一維非等周期透射光柵對(duì)單色平面波聚焦特性的理論與實(shí)驗(yàn)對(duì)比分析 |
| 2.3.1 單色平面波照明條件下衍射角隨入射角的變化關(guān)系 |
| 2.3.2 單色平面波照明條件下聚焦線位置隨入射角的變化關(guān)系 |
| 2.4 一維非等周期透射光柵對(duì)單色球面波聚焦特性的理論和實(shí)驗(yàn)對(duì)比分析 |
| 2.4.1 單色球面波照明條件下衍射角隨入射角的變化關(guān)系 |
| 2.4.2 單色球面波照明條件下聚焦線位置隨入射角的變化關(guān)系 |
| 2.5 一維非等周期透射光柵的色散特性的研究 |
| 2.5.1 球面波照明條件下一維非等周期光柵的色散理論 |
| 2.5.2 平面波照明條件下一維非等周期光柵的色散理論 |
| 2.5.3 球面波照明條件下一維非等周期光柵的色散特性分析 |
| 2.5.4 平面波照明條件下一維非等周期光柵的色散特性分析 |
| 2.6 本章小結(jié) |
| 第三章 平面二維弧形非等周期光柵的全息制作及其衍射特性的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 3.1 平面二維弧形非等周期光柵的全息制作 |
| 3.1.1 平面二維弧形非等周期光柵全息制作的理論 |
| 3.1.2 平面二維非等周期光柵的設(shè)計(jì)與實(shí)驗(yàn)制作 |
| 3.2 平面二維弧形非等周期光柵的聚焦特性的實(shí)驗(yàn)研究 |
| 3.2.1 平面二維弧形非等周期光柵對(duì)單色平面波的聚焦特性 |
| 3.2.2 平面二維弧形非等周期光柵對(duì)單色球面波的聚焦特性 |
| 3.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及分析 |
| 3.3.1 單色平面波作為照明光源時(shí)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析 |
| 3.3.2 單色球面波作為照明光源時(shí)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析 |
| 3.4 本章小結(jié) |
| 第四章 平面非等周期光柵在復(fù)色光分離中的應(yīng)用研究 |
| 4.1 高分辨雙光柵光譜儀設(shè)計(jì) |
| 4.1.1 儀器結(jié)構(gòu)與原理 |
| 4.1.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 4.2 雙光柵單色儀設(shè)計(jì) |
| 4.2.1 儀器結(jié)構(gòu)與原理 |
| 4.2.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 |
| 4.3 小結(jié) |
| 第五章 總結(jié) |
| 參考文獻(xiàn) |
| 致謝 |
| 攻讀碩士學(xué)位期間的研究成果 |
四、變間距光柵刻線密度測(cè)試系統(tǒng)的性能評(píng)價(jià)（論文參考文獻(xiàn)）
- [1]消像差凸面全息光柵成像光譜系統(tǒng)建模與一體化設(shè)計(jì)[D]. 趙美紅. 中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所), 2021(03)
- [2]用于檢測(cè)光柵線密度的長(zhǎng)程面形儀系統(tǒng)[J]. 吳新樸,韋懷坤,劉正坤,邱克強(qiáng),徐向東,洪義麟. 光學(xué)學(xué)報(bào), 2021(06)
- [3]合肥光源平面光柵單色器設(shè)計(jì)及調(diào)試[D]. 杜亮亮. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué), 2017(11)
- [4]平面非等周期雙光柵系統(tǒng)成像研究[D]. 唐雅玲. 廣西大學(xué), 2016(05)
- [5]軟X射線并聯(lián)平場(chǎng)光柵的設(shè)計(jì)和制作[D]. 王慶博. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué), 2015(09)
- [6]軟X射線全息平焦場(chǎng)光柵的研制[D]. 陳火耀. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué), 2015(09)
- [7]平面非等周期光柵的成像特性研究[D]. 高彥春. 廣西大學(xué), 2014(05)
- [8]變線距光柵單色器設(shè)計(jì)及關(guān)鍵技術(shù)[D]. 李朝陽. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué), 2014(10)
- [9]凹面變線距光柵的二維線密度分布測(cè)試及軟X射線平場(chǎng)光譜儀的研制[D]. 杜學(xué)維. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué), 2013(10)
- [10]平面非等周期光柵的衍射特性研究[D]. 王春芝. 廣西大學(xué), 2013(05)
標(biāo)簽：光柵論文; 全息論文; 光柵常數(shù)論文; 波的衍射論文; 光譜分辨率論文;